描述

專門用于研究高溫超導體的物理特性（電子能帶結構）的定制多室 UHV 系統。

• 中央徑向分布室與連接的分析室和輔助室允許在真正的 UHV 條件下（壓力
• Multitechnique 分析室集成了不同的表面分析方法，如 ARPES、UPS 和 LEED。由 mu-metal 制造，設計用于比 0.5 meV 更好的能量分辨率
• 可用于實驗室以及同步加速器光束線上。
• 水平安裝的分析儀可以輕松旋轉 90 度。
• 框架具有輕松的高度和 xy 調整，可快速輕松地再現與外部光源（同步加速器或激光）的對齊