PREVAC 高壓光電發(fā)射光譜 UHV 系統(tǒng) High Pressure Photoemission Spectroscopy UHV System [project 487]
它配備了 HP 分析儀，但重點(diǎn)是高度靈活的樣品環(huán)境，部分是新開發(fā)的、高度通用的氣室，部分是用完全不同的室設(shè)置替換分析室的可能性。因此，該站將允許進(jìn)行氣固和氣液相互作用的前沿研究。該系統(tǒng)配備了自動(dòng)控制功能，允許許多不同的操作員安全有效地操作許多不同類型的樣品。
該系統(tǒng)的核心是基于高壓分析儀和 PREVAC 設(shè)計(jì)的氣室概念的分析模塊。
HP 池 3 軸機(jī)械手設(shè)計(jì)允許通過 IR 激光照射加熱樣品（樣品溫度可在池內(nèi)達(dá)到 800 °C 以上）、電阻加熱（高達(dá) 700 °C）和 LN?2冷卻（雙 Z 軸：一個(gè)氣池的正確放置，其次是高精度的樣品定位）。為了便于從氣室分離，操縱器安裝在導(dǎo)軌上。
▪環(huán)境壓力 50 mbar – 10?-10?mbar
▪ 高度靈活的樣品環(huán)境
▪ 創(chuàng)新的多功能氣室
▪ 輕松拆卸 HP 電池操作器
▪ 輕松拆卸分析儀模塊
▪易于操作
▪ 用于氣-固和氣-液相互作用
