用于在 XPS/AES 和 SIMS 應用中對絕緣體或半導體進行電荷中和的低成本電子流槍。
泛光源在兩個能量范圍內運行，完全由軟件控制，還可以提供定制的插入長度（145 – 421 毫米，其他應要求提供）和屏蔽材料，例如 mu 金屬、銅。
特征
- 高電子束電流
- 可選擇的能量范圍
- 穩定排放
- 光束輪廓控制
選項
- 線性移位
- 定制插入長度
- 源屏蔽材料（μ-金屬或銅）
產品規格
| 安裝法蘭 | DN 40CF（不可旋轉） |
| 能量范圍 | 0.01 – 500 eV |
| 采樣電流 | 高達 100 μA |
| 陰極類型 | 釷鎢 |
| 盾 | Cu或μ金屬 |
| 插入長度 | 分鐘?145 毫米（其他應要求提供），外徑：33.6 毫米（微米金屬），35 毫米（銅） |
| 半高寬 | 取決于工作距離（例如，距離 30 mm 為 10 mm） |
| 典型工作距離 | 20-100 毫米 |
| 烘烤溫度 | 高達 250°C |
| 工作壓力 | < 5 × 10?-6毫巴 |
