定制、多腔室、高精度沉積平臺，采用模塊化、用戶友好的系統設計方法?，F場均勻腔室設計結合了PREVAC和其他制造商制造的各種典型或非標準組件，實現了高質量的逐層涂層。

系統旨在與任何其他分析或沉積表面科學技術、輔助實驗室設備和任何附件實現最大兼容性。使用徑向分配或隧道傳輸系統可以與其他真空室、模塊和單元集成。

模塊化、用戶友好的系統設計方法意味著整個系統可以通過簡單地更換通用安裝法蘭進行重新配置，這一過程既快速又簡單。

可以通過前門、自動提升的頂部法蘭或通過底部法蘭進入工藝室，可使用專門設計的手推車進行更換。因此，可以輕松快速地更換磁控管靶、基板支架操縱器或訪問/更換整個底部法蘭。頂部法蘭的提升機構是電動的，并通過傳感器進行充分保護。

該系統配置有適當的密封和泵送系統，以實現10^-7毫巴（帶viton密封門）、5×10^-8毫巴（帶有viton密封和差動泵送門）或超高壓壓力（不帶門，帶快速進入負載鎖用于襯底引入）范圍內的基本真空。

工藝室配有不同尺寸的超高壓標準連接法蘭，用于連接當前和未來的設備，包括：

磁控管源，
基板操縱器，
用于清潔、蝕刻或活化襯底表面的離子源，
泵送系統，
線性輸送系統、徑向分配室或輸送通道的入口，
氣體計量系統：工藝氣體最多4條管線，以及最多4種氣體的質量流量控制，
殘余氣體分析儀，
石英天平，
高溫計，
帶檢測器的橢圓儀，
視口（帶百葉窗的觀察窗），
真空計

泵送系統是不同類型的泵的組合，例如前真空泵、離子泵、低溫泵、渦輪泵或鈦升華泵，根據具體應用需求單獨選擇以實現最佳泵送性能。

Synthesis過程控制軟件允許各種類型和制造商的來源進行集成和完美合作，并實現簡單的配方編寫、自動生長控制和廣泛的數據記錄。允許基于Tango開源設備集成新的附加組件。

該系統配備了先進、易于使用的電源和電子設備，用于控制和支持電源和整個研究設備。

多室多技術沉積研究平臺，具有許多有用的配置和選項
非常適合沉積金屬和介電薄膜
根據來源的類型和數量，可提供不同尺寸的處理室：dst 450、dst 570和dst 715 mm（根據要求提供其他尺寸）
基本壓力范圍從10-7毫巴到超高壓
雙軸機械手，具有由固體SiC制成的穩定、長壽命的加熱器元件和接收站，可實現高達1200°C的高溫
具有兩級接收站的機械手，用于基板支架，以滿足共焦和平面磁控管配置的要求
廣泛的基板支架尺寸（從10×10毫米到6英寸，其他可根據要求）和形狀
提供濺射向上和濺射向下布置
在直流、射頻和脈沖直流模式下運行
單獨操作或以共沉積模式操作，以生產多種薄膜組合物
Ar氣體質量流量控制自動加藥
現場表征工具的可能性，例如等離子體發射監測器（PEM）、橢圓儀、反射儀、石英天平或高溫計溫度測量系統
由單個電源和開關網絡提供的多個源，或由用于共沉積處理的多個電源提供
前門通道和/或裝載鎖定室，可快速輕松地裝載基板
可以使用專用起重小車完全接近或更換帶源的底部法蘭
為擴展準備的模塊化框架
用于樣品制備的一系列解決方案，例如手套箱、樣品切割機或設計用于樣品加熱、冷卻、清潔等的設備齊全的制備室。
19“帶電子單元的機柜
專用人機界面（HMI）設備，硬件易于控制和監控
Synthesis軟件可對沉積過程和設備進行全面控制