波蘭 PREVAC 分子束外延設備 Mini MBE systems是一種簡單且功能齊全的迷你MBE系統旨在外延生長薄層。即插即用緊湊型設計。

如果您需要高質量的沉積工藝，結合低運行操作成本的設計和小尺寸的設備，這就是答案。該單元是理想的，例如用于研發單元中新材料和技術的快速測試。

分子束外延獨立系統適用于生長III/V、II/VI族元素以及其他異質結構等。

分子束外延設備 Mini MBE systems包含8個用于蒸發源的端口，襯底臺用于10×10 mm的樣品，具有加熱和旋轉選項。
沉積過程可以在較寬的溫度范圍內（從LN2到1400?C）進行控制，并且可以通過PLC控制器進行完全的軟件編程和控制。

分子束外延設備 Mini MBE systems配有超高壓標準的連接法蘭，用于連接當前和未來的設備，包括：
最多8個帶法蘭DN40CF（高溫或低溫、單絲或多絲）的滲出池，
具有溫度范圍（從LN2到1400?C）的基板操縱器，
泵送系統（基于背壓泵、TMP、離子泵和TSP），
帶設備的真空計，
用于線性傳送系統或運輸箱的入口，
石英天平，帶Z機械手的厚度監測器，
RHEED/TorrHEED帶設備，
用于相鄰層或掩模的電動或手動快門（跟隨襯底），
額外的氣體配料，例如用于反應沉積工藝，
視口–帶百葉窗的觀察窗，
殘余氣體分析儀，
診斷設備的加熱視口。
最終設計和功能取決于系統配置。

泵送系統與小體積的工藝室相結合，可以在短時間內達到基本壓力，其中基本壓力保證在5×10-10毫巴以下。

該系統配備了先進、易于使用的電源和電子設備，用于控制和支持電源和整個研究設備。

波蘭 PREVAC 分子束外延設備 Mini MBE systems主要特征：

插頭和工作結構
經濟的解決方案，專為空間有限的實驗室設計
適用于生長III/V、II/VI族元素以及其他異質結構
多達8個蒸發源DN 40CF端口，帶電源
具有高精度溫度控制的4軸電動或手動機械手：電阻加熱高達1000°C，EB加熱高達1400°C，水或LN2冷卻（可根據要求提供更簡單的機械手）
為Flag型基板/樣品支架準備
帶LN2護罩的基本壓力：<2×10-10毫巴
帶可更換底部法蘭的小型工藝室
泵送系統（基于背壓泵、TMP、離子泵和TSP）
用于沉積速率測量和厚度監視器的石英天平，帶Z機械手測量焦點中的速率
帶設備的RHEED/TorrHEED
40CF端口上的附加獨立百葉窗
裝載用于單個樣品支架的鎖定室，或帶有用于6或12個Flag型基板支架的旋轉木馬（作為存儲）
從負載鎖到處理室的可靠快速線性傳輸系統
帶設備的真空計
視口-帶快門的觀察窗
烘烤前帶有集成排氣管線的冷卻系統
烘烤系統
可調節剛性主框架，帶大輪子，便于放置系統
19“帶電子單元的機柜