PREVAC 高壓光電子能譜系統用于在壓力范圍2×10^-9 mbar至50 mbar內進行光電子能譜實驗，具有可控樣品溫度。PREVAC 高壓光電子能譜系統適用于在超高真空（UHV）或環境壓力條件下對廣泛的納米材料進行分析。
PREVAC 高壓光電子能譜系統包括一個分析腔室和一個負載鎖腔室，以便于快速、便捷地加載樣品。系統提供完整的PLC保護和軟件控制，包括對機器狀態的清晰可視化、數據采集以及對所有集成設備、電源和輔助設備的控制。
PREVAC 高壓光電子能譜系統分析腔室配備了符合超高真空（UHV）標準的連接法蘭，可用于連接當前和未來的設備，包括：
高壓半球形能量分析儀及其設備
高壓X射線雙陽極單色源及其電源
高壓X射線雙陽極非單色源及其電源
帶電源的紫外單色光源
帶電源的紫外光源
帶電源的泛射源
帶電源的電子源
帶電源的離子源，用于深度剖析或清潔
帶電源的氣體簇離子源
溫度范圍廣的樣品操控器（從液氦/液氮到1400?C）
抽氣裝置（基于備份泵、渦輪分子泵、離子泵和帶大面積液氮冷罩的鈦升華泵）
配備設備的真空計
用于線性傳輸系統的入口端口，例如從負載鎖到分析腔室
用于樣品夾持器的負載鎖腔室
觀察窗口
殘余氣體分析儀
最終設計和功能取決于系統配置。泵系統是不同類型泵的組合，例如前級泵、離子泵、渦輪分子泵或帶大面積液氮冷罩的鈦升華泵，根據具體應用需求單獨選擇，以實現最佳泵送性能。
如有需要，系統的模塊化設計允許通過徑向分布傳輸解決方案或傳輸通道與任何其他研究平臺進行組合和集成。Spectrium分析控制軟件允許半球形能量分析儀與各種類型的光源完美集成與協作，支持輕松編寫操作流程、自動測量控制和廣泛的數據記錄。該軟件還允許基于Tango開源設備集成新的附加組件。
PREVAC 高壓光電子能譜系統適用于以下領域的大多數研究需求的標準解決方案：
XPS / UPS / ARPES / AES / EELS / ISS / IPES / LEIPS 技術 | 超高真空（UHV）條件
HPXPS / APXPS / APUPS 技術 | 環境壓力條件
實驗過程的全自動化
回填配置
高壓半球形能量分析儀 EA15-HP5 / EA15-HP50 及其設備
高壓高功率雙陽極X射線源，帶單色器（AlKα 和 AgLα），帶電源
高壓高功率雙陽極非單色X射線源（AlKα 和 MgKα），帶電源
帶電源的紫外光源
帶電源的泛射源
用于深度剖析或清潔的離子源
電動或手動4-6軸操控器，接收站可實現從液氦/液氮到高達1400°C的溫度
不同尺寸的樣品夾持器：從10×10 mm到2英寸
分析腔室直徑 ? 310 mm
基本壓力降至10^-9 mbar（取決于泵的配置）
抽氣系統（基于備份泵、渦輪分子泵和鈦升華泵，帶冷凍罩）
全自動氣體加注系統
配備設備的真空計
用于樣品夾持器的負載鎖腔室
從負載鎖到分析腔室的可靠且快速的線性傳輸系統
觀察窗口，配有攝像頭
烘烤系統
可調節的系統剛性主框架
帶電子單元的19英寸機柜
由Spectrium軟件和PLC單元完全控制的分析過程和設備
