簡單且功能齊全的濺射沉積裝置，用于可重復(fù)的薄膜層應(yīng)用。?即插即用的緊湊設(shè)計(jì)。?

工藝腔室包含 3 個(gè)磁控濺射源端口（用于金屬和無機(jī)物），安裝在濺射配置中。最多可同時(shí)使用兩個(gè)源（共沉積）基板階段適用于直徑高達(dá)2英寸的樣品，具有加熱和旋轉(zhuǎn)選項(xiàng)。?