緊湊、易于使用的離子源類型，用于樣品表面清潔。該源產(chǎn)生的離子電流大于70μA/cm2（氬氣），具有高斯光束輪廓。源插入長(zhǎng)度可根據(jù)個(gè)人要求進(jìn)行調(diào)整（在62.5毫米-384.5毫米之間，其他可根據(jù)要求提供）
特性
使用惰性氣體（Ar）和反應(yīng)性氣體（O2、H2、壽命縮短的碳?xì)浠衔铮┻M(jìn)行操作
高離子束電流
壽命長(zhǎng)
高穩(wěn)定性
選項(xiàng)
氣體進(jìn)樣系統(tǒng)
定制插入長(zhǎng)度
線性移位
技術(shù)參數(shù)
| Mounting flange | DN 40CF? (non-rotatable) |
| Energy range | 0.12 keV – 5 keV |
| Current density | > 120 μA/cm2 (for distance 30 mm) |
| Shield | Cu, stainless steel (for reactive gases) |
| Cathode type | yttrium oxide coated iridium filament |
| Insertion length | min. 62.5 mm, other on request OD: max. 37 mm |
| FWHM | dependent on ion energy and working distance (e.g. 3 mm for distance 30 mm) |
| Typical working distance | 30 – 250 mm |
| Bakeout temperature | up to?250°C |
| Working pressure | 10-5?– 10-6?mbar |
