針對XPS和高壓XPS實驗優化的高強度雙陽極Al/Mg源。陽極、燈絲和源外殼的設計保證了最大的X射線強度和陽極面之間非常低的串擾。特殊配置的鼻錐允許最大限度地接觸樣品。標準源中使用的雙陽極允許分離發射兩種不同特征的X射線輻射發射線：Mg（1253 eV）和Al（1487 eV）——根據要求提供其他涂層材料。
特性
高強度雙陽極鋁/鎂
特殊配置的鼻錐
串擾非常低
低磁場
密封外殼
非常有效地水冷內殼，以減少操作過程中對樣品的熱損傷
內置雙高壓保護和密封外殼
能夠在毫巴范圍內進行高壓實驗（可選）
能夠在有限的水流下完全控制工作。
選配
HP版本，最高20毫巴
線性偏移，傾斜50-100mm（適用于配備額外泵浦端口的HP X射線源）
冷卻器
技術參數
| Mounting flange | DN 40CF (non-rotatable) |
| Anode | Al/Mg (other materials on request) |
| Power | Al 600 W?/ Mg 400 W |
| Energy range | 7 – 15 keV |
| Cathode current (Icath) | up to?2.5 A |
| Emission current range (Ie) | 0 – 50 mA |
| Cross talk | < 0.35 % |
| Magnetic field at sample | below 0.5 μT |
| Increased sample temperature | < 5 °C |
| Cathode type | thoriated tungsten |
| Water cooling | required, pressure 3.5 – 5 bar (max. 6 bar), flow ≥ 2.5 l/min., Tmax = 30 °C |
| Insertion length | 285 mm; OD: 35 mm |
| FWHM | dependent on working distance (e.g. 30 mm for distance 15 mm) |
| Typical working distance | 5 – 30 mm (optimum 15 mm) |
| Bakeout temperature | up to?250 °C |
| Working pressure | < 5 x 10-6?mbar |
