標(biāo)準(zhǔn)光電子能譜系統(tǒng)

用于 UHV 環(huán)境中光電子能譜實驗的分析系統(tǒng)，具有可控的樣品溫度。

獨立系統(tǒng)適用于分析各種納米材料。該系統(tǒng)包括一個分析室和一個負(fù)載鎖定室，用于輕松快速地加載基板。泵送系統(tǒng)與分析室的標(biāo)準(zhǔn)容積相結(jié)合，可將極限壓力降至 10^-11mbar，具體取決于泵的配置。

標(biāo)準(zhǔn)高壓電子能譜系統(tǒng)

PREVAC 標(biāo)準(zhǔn) HPPES 系統(tǒng)用于 2×10^-9 mbar – 50 mbar 壓力范圍內(nèi)的光電子能譜實驗，樣品溫度可控。獨立系統(tǒng)適用于在 UHV 或環(huán)境壓力條件下分析各種納米材料。

該系統(tǒng)包括一個分析室和一個負(fù)載鎖定室，可方便快速地加載樣品。它提供完整的 PLC 保護(hù)和軟件控制，包括機器狀態(tài)的清晰可視化、數(shù)據(jù)采集以及所有集成設(shè)備、電源和輔助設(shè)備的控制。

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高級PES系統(tǒng)

用于光電子能譜實驗的先進(jìn)多室 PREVAC 高級 PES 系統(tǒng)，旨在與其他表面科學(xué)技術(shù)、輔助實驗室設(shè)備和任何附件實現(xiàn)最大兼容性。?

多功能的模塊化設(shè)計使得平臺易于擴(kuò)展和與任何其他分析、沉積或制備HV/UHV單元的集成，例如通過徑向分配或隧道轉(zhuǎn)移系統(tǒng)進(jìn)行連接。?

泵送系統(tǒng)與分析室的標(biāo)準(zhǔn)容積相結(jié)合?，可以達(dá)到極限壓力，其中極限壓力降至?10^-11?mbar，具體取決于泵的配置。?

高級HPPES系統(tǒng)

用于光電子能譜實驗的研究平臺，壓力范圍為 10^-10mbar 至 50 mbar，樣品溫度可控。

PREVAC UHV-HP PES 系統(tǒng)是一個獨特、性能卓越的分析平臺，用于最先進(jìn)的高壓光電子分光光譜。它配備了一臺 HP 分析儀，但重點是高度靈活的樣品環(huán)境，部分是新開發(fā)的、高度通用的氣體池，部分是可以用完全不同的腔室設(shè)置替換分析室的可能性。

 

光束線分析平臺，集成不同的表面分析方法。同步加速器終端站是多功能 UHV 系統(tǒng)，旨在對材料表面進(jìn)行精確和多樣化的分析。

我們的高素質(zhì)設(shè)計師團(tuán)隊開發(fā)解決方案提案和概念，使我們能夠?qū)嵤┳顝?fù)雜的項目。

UHV 研究系統(tǒng)既可以作為獨立設(shè)備運行，也可以作為同步加速器裝置中的終端站運行。

框架具有簡單的高度和 x-y 調(diào)整功能，可快速輕松地復(fù)制與外部光源（同步加速器或激光）的對齊。多技術(shù)分析室集成了不同的表面分析方法，如 ARPES、UPS、XAS 或 LEED。由 mu 金屬制成，旨在實現(xiàn)優(yōu)于 0.5 meV 的能量分辨率。