PREVAC 特高壓多室系統(tǒng) UHV multichamber system [project 422]

用于 FTIR 研究的多技術(shù) UHV 系統(tǒng)，配備 MBE 室和制備模塊。

– 紅外室允許在真空條件下進(jìn)行紅外測(cè)量：

• 用于 Bruker Optics Inc. 紅外光譜儀的溴化鉀玻璃端口制備系統(tǒng)。
• 具有 LN?₂冷卻和高達(dá) 2000°C EB 加熱的高精度 4 軸機(jī)械手允許在以下兩種模式下進(jìn)行測(cè)量：反射和透射模式
• 用于樣品清潔的離子濺射源
• 帶有專(zhuān)用框架的高精度紅外真空光譜儀允許
• 氣體加藥系統(tǒng)
• 寬范圍壓力調(diào)節(jié)系統(tǒng)（1 mbar -10?^-10?mbar）

– 非有機(jī)材料兩級(jí)制備室：

• 具有 LN?₂冷卻和高達(dá) 2000°C 的 EB 加熱的高精度 4 軸機(jī)械手
• 用于樣品清潔的離子濺射源
• 原子氫源
• LEED –AUGER 光學(xué)
• 熱解吸光譜儀 TDS

– 帶低溫防護(hù)罩的 MBE 室保證基礎(chǔ)壓力優(yōu)于 1 x 10?^-10毫巴

• 高精度、特殊設(shè)計(jì)的 2 軸 MBE 機(jī)械手，帶手動(dòng)快門(mén)、LN?₂冷卻和 EB 加熱
• 工作溫度高達(dá) 1600°C 的 Efusion Cell
• 電子束蒸發(fā)器
• 沉積速率測(cè)量系統(tǒng)：石英平衡和厚度監(jiān)視器
• 反射高能電子衍射 RHEED 15 KeV
• 等離子體原子源

– 用于轉(zhuǎn)移樣品的徑向分配室 (UFO) 在 UHV 壓力下在室之間轉(zhuǎn)移
– 負(fù)載鎖定室允許裝載 PTS 樣品架
– 存儲(chǔ)室包括用于 6 PTS 樣品架的停放機(jī)制
– 附件：

• 一套專(zhuān)用、多功能、多材料樣品架
• 所有電子單元的特殊機(jī)架
• 特殊設(shè)計(jì)的烘烤系統(tǒng)
• 備件