PREVAC 真空系統(tǒng) 特高壓多室系統(tǒng) UHV multichamber system [project 422]

PREVAC 特高壓多室系統(tǒng) UHV multichamber system [project 422]

用于 FTIR 研究的多技術 UHV 系統(tǒng),配備 MBE 室和制備模塊。

– 紅外室允許在真空條件下進行紅外測量:

  • 用于 Bruker Optics Inc. 紅外光譜儀的溴化鉀玻璃端口制備系統(tǒng)。
  • 具有 LN?2冷卻和高達 2000°C EB 加熱的高精度 4 軸機械手允許在以下兩種模式下進行測量:反射和透射模式
  • 用于樣品清潔的離子濺射源
  • 帶有專用框架的高精度紅外真空光譜儀允許
  • 氣體加藥系統(tǒng)
  • 寬范圍壓力調節(jié)系統(tǒng)(1 mbar -10?-10?mbar)

– 非有機材料兩級制備室:

  • 具有 LN?2冷卻和高達 2000°C 的 EB 加熱的高精度 4 軸機械手
  • 用于樣品清潔的離子濺射源
  • 原子氫源
  • LEED –AUGER 光學
  • 熱解吸光譜儀 TDS

– 帶低溫防護罩的 MBE 室保證基礎壓力優(yōu)于 1 x 10?-10毫巴

  • 高精度、特殊設計的 2 軸 MBE 機械手,帶手動快門、LN?2冷卻和 EB 加熱
  • 工作溫度高達 1600°C 的 Efusion Cell
  • 電子束蒸發(fā)器
  • 沉積速率測量系統(tǒng):石英平衡和厚度監(jiān)視器
  • 反射高能電子衍射 RHEED 15 KeV
  • 等離子體原子源

– 用于轉移樣品的徑向分配室 (UFO) 在 UHV 壓力下在室之間轉移
– 負載鎖定室允許裝載 PTS 樣品架
– 存儲室包括用于 6 PTS 樣品架的停放機制
– 附件:

  • 一套專用、多功能、多材料樣品架
  • 所有電子單元的特殊機架
  • 特殊設計的烘烤系統(tǒng)
  • 備件

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