PREVAC 高壓光電發射光譜 UHV 系統 High Pressure Photoemission Spectroscopy UHV System [project 487]
它配備了 HP 分析儀，但重點是高度靈活的樣品環境，部分是新開發的、高度通用的氣室，部分是用完全不同的室設置替換分析室的可能性。因此，該站將允許進行氣固和氣液相互作用的前沿研究。該系統配備了自動控制功能，允許許多不同的操作員安全有效地操作許多不同類型的樣品。
該系統的核心是基于高壓分析儀和 PREVAC 設計的氣室概念的分析模塊。
HP 池 3 軸機械手設計允許通過 IR 激光照射加熱樣品（樣品溫度可在池內達到 800 °C 以上）、電阻加熱（高達 700 °C）和 LN?2冷卻（雙 Z 軸：一個氣池的正確放置，其次是高精度的樣品定位）。為了便于從氣室分離，操縱器安裝在導軌上。
▪環境壓力 50 mbar – 10?-10?mbar
▪ 高度靈活的樣品環境
▪ 創新的多功能氣室
▪ 輕松拆卸 HP 電池操作器
▪ 輕松拆卸分析儀模塊
▪易于操作
▪ 用于氣-固和氣-液相互作用
