PREVAC 4-6 軸氦氣機(jī)械手(閉環(huán))4-6 axes Helium Manipulators (Closed Cycle)
帶有氦低溫恒溫器的機(jī)械手是一種多功能的閉式循環(huán)系統(tǒng),在超高真空研究中有許多應(yīng)用。
機(jī)械手可以配置 Z 滑塊、XY 平臺(tái)或差動(dòng)泵送旋轉(zhuǎn)饋通。模塊化結(jié)構(gòu)意味著可以通過添加或替換明確定義的模塊來升級(jí)或修改規(guī)范。標(biāo)準(zhǔn)安裝法蘭為 DN 100CF。該系統(tǒng)通常包括壓縮機(jī)、高壓軟管、膨脹機(jī)、溫度控制器、加熱器和傳感器。
選項(xiàng)
▪ 全電動(dòng)
▪ 全軟件控制
▪ 氦氣回收系統(tǒng)
▪ 可以安裝角度裝置進(jìn)行 PES 校準(zhǔn)
▪ 用于硅樣品直接加熱的附加電觸點(diǎn)
▪ 低振動(dòng)低溫恒溫器
▪ 溫度穩(wěn)定
▪ 加熱選項(xiàng)??:直接、電阻或 EB
加熱和冷卻方法
樣品溫度取決于樣品架類型:
▪ EB 加熱 –高達(dá) 1000 °C(第二階段)
▪ 直接加熱10 A
▪ 電阻加熱(應(yīng)要求)
▪ 液氦冷卻:
–低于 10 K?* (5 -axes 機(jī)械手)
* 無需穩(wěn)定和加熱選項(xiàng)即可實(shí)現(xiàn)參數(shù)。
技術(shù)數(shù)據(jù)
標(biāo)準(zhǔn)底座法蘭 | DN 100CF 或 DN 160CF |
壓力范圍 | 1 巴至 10?-11毫巴 |
加熱方式 | 電阻,EB,直接 |
冷卻方式 | 氦氣 |
XY范圍 | ± 12.5 毫米* |
?? 位置控制 | 千分尺/機(jī)動(dòng)** |
?? 分辨率(手動(dòng)/機(jī)動(dòng)) | 5微米/1微米 |
Z范圍 | 高達(dá) 300 毫米 |
?? 位置控制 | 手輪/電動(dòng)** |
?? 分辨率(手動(dòng)/機(jī)動(dòng)) | 50 μm / 標(biāo)準(zhǔn) 10 μm (1 μm 根據(jù)要求) |
R1范圍 | ± 180° |
?? 位置控制 | 旋轉(zhuǎn)饋通/機(jī)動(dòng)** |
?? 分辨率(機(jī)動(dòng)) | 0.1° |
R2范圍 | 360°連續(xù) |
?? 位置控制 | 機(jī)動(dòng)** |
?? 分辨率(機(jī)動(dòng)) | 0.1° |
R3范圍 | – 20° 至 +40° |
?? 位置控制 | 旋轉(zhuǎn)饋通/機(jī)動(dòng)** |
?? 分辨率(機(jī)動(dòng)) | 0.1° |
烘烤溫度 | 高達(dá) 150 °C |
* 用于底座法蘭 DN 160CF
** 步進(jìn)電機(jī)或伺服電機(jī) – 取決于應(yīng)用。
可根據(jù)要求為客戶電機(jī)或驅(qū)動(dòng)器準(zhǔn)備機(jī)械手。
AES ARPES EA15 EA15-HP50 IS 40C1 IS 40E1 ISS Kerr效應(yīng) MBE MBE Chamber MBE腔室 Prevac PREVAC 離子源 TPD/TDS UHV特高壓多室分析系統(tǒng) UHV表面科學(xué)分析系統(tǒng) XPS(ESCA) 光電子能譜儀 半球能量分析儀 原子力顯微鏡 原子力顯微鏡分析 原子力顯微鏡分析系統(tǒng) 多層薄膜的原位實(shí)時(shí)磁光Kerr效應(yīng) 無油真空泵 殘留氣體分析儀 真空光譜儀 真空室 真空機(jī)械手 真空油泵 真空泵 真空泵系統(tǒng) 真空測(cè)控裝置 真空能量分析 真空能量分析光譜 真空腔 真空表面分析系統(tǒng) 離子源 表面分析系統(tǒng) 超薄磁性薄膜 軸氦氣機(jī)械手 高壓光發(fā)射光譜特高壓系統(tǒng) 高真空泵