FTIR光譜系統

紅外室專為紅外光譜研究而設計。它配備了精密的樣品定位機構、視口和備用端口，用于未來的設備。該系統包括溴化鉀玻璃端口，可與 Bruker Optics Inc. 紅外光譜儀配合使用。其他市售光譜儀可根據要求進行接口。

MOKE系統

UHV 系統，用于超薄磁膜和多層的原位實時磁光克爾效應研究。

它旨在研究偏振光通過受磁場影響的樣品材料的反射。

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TPD/TDS系統

獨立的 UHV 裝置，用于測量超薄膜的吸附/解吸，能夠在較寬的溫度范圍內進行高精度溫度控制。

AFM/STM系統

獨特的原子力顯微鏡分析系統，可在寬壓力范圍內工作，用于氣固界面的前沿研究。主 AFM 室 – 由不銹鋼制成，帶有不同尺寸的連接法蘭，用于當前和其他設備。工作壓力范圍為 1 個大氣壓至 UHV（在 150 oC 下烘烤后）。

帶 6 軸力傳感器的 UHV 摩擦計。

用于研究兩個表面之間的摩擦學和機械性能（例如，用于壓痕和斷裂實驗）的模塊，溫度范圍很廣，從 UHV 到環境壓力條件。