PREVAC MBE系統 沉積系統 分子束外延 離子源 單晶的薄膜沉積 原子層沉積 真空鍍膜

微型MBE系統

一種簡單且功能齊全的 Mini MBE 系統用于薄層的外延生長。即插即用的緊湊設計。

如果您需要高質量的沉積工藝,并結合低運行成本的設計和小尺寸的設備,那么這就是答案。該裝置非常適合在研發裝置中快速測試新材料和技術。

分子束外延系統適用于來自 III/V、II/VI 族以及其他異質結構等的元素的生長。

標準MBE系統

PREVAC 獨立式 MBE 系統包括一個沉積工藝室和一個負載鎖定室,可方便快速地加載基板。它適用于 III/V、II/VI 族元素以及其他異質結構等的生長。

可提供底部法蘭可更換的系統設計。使用專門設計的手推車可以輕松更換整個法蘭,因此為您的研究提供了各種不同的離子源配置和選項。

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高級MBE系統

用于薄層生長技術的先進多腔室平臺,旨在與其他表面科學技術、輔助實驗室設備和任何附件實現最大兼容性。?

多功能的模塊化設計允許輕松擴展平臺并與任何其他沉積、分析或制備HV/UHV單元集成,例如通過徑向分配或隧道轉移系統。?

它用于單晶的薄膜沉積,并具有磁特性、形貌、晶體學、薄膜厚度等的原位表征。

iMBE系統

全自動MBE硬件設置用于薄膜生長,例如用于半生產和用戶方便的非常高質量原子層的沉積。

iMBE 系統用于單晶的薄膜沉積,具有磁特性、形貌、晶體學、薄膜厚度等的原位表征功能。


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