PREVAC XPS UPS Photoelectron Spectrometer XPS UPS光電子能譜儀

描述

UHV ESCA系統(tǒng)專用于在非常好的控制條件下通過不同的方法研究在寬溫度和壓力范圍內(nèi)的固態(tài)表面的化學(xué)和物理性質(zhì)。

規(guī)格

該系統(tǒng)設(shè)計用于在良好控制的條件下通過XPS / UPS方法研究和修改固體表面。分析室中的基本壓力為<5 * 10?^-11?mbar。

• 多功能分析室集成了不同的測量方法，例如標(biāo)準(zhǔn)的ESCA，AES，ISS和UPS。高精度的5軸機械手可確保樣品的良好定位，并配備了適用于LN?_2的低溫恒溫器和用于在很寬的溫度范圍內(nèi)冷卻和加熱樣品的加熱器。該腔室由mu金屬制成，配備了半球形分析儀和分析設(shè)備，例如離子源，電子源，溢流槍，單色X射線源，無單色X射線源，紫外線源，并已為許多其他設(shè)備準(zhǔn)備。該設(shè)備可以根據(jù)客戶需求進(jìn)行修改。
• 兩級制備室，配備LEED，TDS，離子源，電子束蒸發(fā)器，機械表面清潔劑和許多端口，可用于將來的制備或蒸發(fā)設(shè)備。樣品上的溫度取決于樣品架，溫度范圍從-180°C到2000°C。
• 分配室，用于將樣品架轉(zhuǎn)移到在其圓周上連接的特定室。
• 切割刀腔，用于切割安裝在合適樣品架中的樣品。
• 高壓室可加熱到650°C，并在受控的氣體氣氛中將樣品冷卻至2 MPa的壓力
• 帶有內(nèi)部烘烤系統(tǒng)的裝載鎖定室，用于粉塵樣品的抽吸。
• 樣品存放室可容納6個樣品架。