高強度雙陽極鋁/鎂源，針對XPS和高壓XPS實驗進行了優化。陽極、燈絲和源極外殼的設計保證了最大的 X 射線強度和陽極面之間的極低串擾。
特殊配置的鼻錐允許最大限度地接近樣品。標準光源中使用的雙陽極允許分離發射兩種不同特征的X輻射發射線：Mg（1253 eV），Al（1487 eV） – 可根據要求提供其他涂層材料。
技術數據：
| 安裝法蘭 | DN 40CF（不可旋轉） |
| 陽極 | 鋁/鎂（可根據要求提供其他材料） |
| 權力 | 鋁 600 瓦 / 鎂 400 瓦 |
| 能量范圍 | 7 – 15 keV |
| 陰極電流（I導管) | 高達 2.5 A |
| 發射電流范圍（Ie) | 0 – 50 毫安 |
| 相聲 | < 0.35 % |
| 樣品磁場 | 低于 0.5 μT |
| 樣品溫度升高 | < 5 °C |
| 陰極類型 | 釷鎢 |
| 水冷 | 需要，壓力 3.5 – 5 巴（最大 6 巴），流量≥ 2.5 升/分鐘，最高溫度 = 30 °C |
| 插入長度 | 285毫米;外徑： 35 毫米 |
| FWHM | 取決于工作距離（例如，距離 30 mm 為 15 mm） |
| 典型工作距離 | 5 – 30 毫米（最佳 15 毫米） |
| 烘烤溫度 | 最高 250 °C |
| 工作壓力 | < 5 x 10-6毫巴 |
特征：
- 高強度雙陽極鋁/鎂
- 特殊配置的鼻錐
- 極低的串擾
- 低磁場
- 密封外殼
- 非常高效的水冷內殼，以減少操作過程中對樣品的熱損傷
- 內置雙重高壓保護以及密封外殼
- 能夠在毫巴范圍內的高壓實驗中工作（可選）
- 能夠在水流有限的完全控制下工作。
選項：
- HP 版本，高達 20 毫巴
- 傾斜 50 – 100 mm 的線性移位（適用于配備額外泵送端口的 HP X 射線源）
- 式 制冷機
