美國Quantum Northwest、Luma 40用戶可定制的基于 Peltier 的溫控比色皿支架，帶有四個光學端口、適用于從吸光度到熒光甚至激光的廣泛光譜應用、光學端口的布置允許在激發光束兩側的激發點測量 90 度的熒光

美國Quantum Northwest、Luma 40用戶可定制的基于 Peltier 的溫控比色皿支架，帶有四個光學端口、適用于從吸光度到熒光甚至激光的廣泛光譜應用、光學端口的布置允許在激發光束兩側的激發點測量 90 度的熒光

亮度 40

用戶可定制的基于 Peltier 的溫控比色皿支架，帶有四個光學端口

產品概述Luma 40 是一款簡單的溫控比色皿支架，具有四個光學端口，適用于從吸光度到熒光甚至激光的廣泛光譜應用。光學端口的布置允許在激發光束兩側的激發點測量 90 度的熒光。當光化學研究需要額外的 90 度訪問時，也可以使用 Luma 40 上的光學端口。

標準 Luma 40 安裝在帶有公制孔圖案的底座上，用于安裝在光學面包板上。我們的安裝選項與來自不同制造商的各種分光光度計兼容，或者立即聯系我們獲取定制安裝解決方案，以滿足您的實驗需求！查看下面的可用選項！

Luma 40 非常適合在 -15 °C 至 100 °C 的溫度范圍內工作。 循環冷卻劑（通常是水）用于去除帕爾貼換熱器中的熱量。Luma 40 將保持精確的樣品溫度并以穩定的可重現速率攪拌，能夠在受控的氣體環境中充滿光學元件，同時在較低溫度下工作以保持光學清晰度。使用 Luma 40 在精確保持的溫度下測量光譜，或用于溫度升溫，以觀察溫度的變化。

添加帶窗夾套并用干燥氣體吹掃，以使用預冷冷卻劑舒適地將溫度降至至少 -40 °C。購買擴展溫度選件，可將最高溫度擴展到 +150 °C。 購買兩者，將您的設備變成終極的、無所不能的機器，溫度變化近 200°C！

使用 TC 1 溫度控制器（包含在購買價格中）可以輕松作 Luma 40。樣品溫度、攪拌速度和升溫速率可以使用前面板上的 TC 1 菜單控制按鈕手動控制，也可以使用 Quantum Northwest 的計算機控制軟件?T-App（可購買）進行控制。

產品特點四個光學端口
快速、精確的溫度控制
可選的擴展溫度范圍
可用于極端
溫度的帶窗護套 變速磁力攪拌
用于低溫工作的干氣吹掃 用于安裝在光學面包板上
的
底座和柱 用于樣品溫度
的探頭輸入 NIST 可追溯溫度校準

  • 技術規格
    受控的比色皿數量
    1
    典型用途
    熒光
    標準比色皿尺寸（外部）
    12.5 毫米 x 12.5 毫米
    每個比色皿的光學端口
    4
    光端口尺寸
    12 mm 高 x 10 mm 寬
    內置光學狹縫支架
    每個比色皿 4 個
    比色皿 z 高度
    大多數型號為 8.5 或 15 毫米
    提供帶窗夾克
    2、3 或 4 個窗口
    正常工廠設定溫度范圍
    -40 °C 至 +105 °C
    溫度范圍易于實現
    -15 °C 至 +105 °C
    采用特殊技術的范圍
    -40 °C 至 +105 °C
    擴展的出廠設定溫度范圍
    -55 °C 至 +150 °C
    可實現擴展的溫度范圍
    -50 °C 至 +150 °C
    精度 范圍更大
    優于 ±0.3 ?C，從 -20 ?C 到 +110 ?C
    溫度重現性
    優于 ±0.07 °C
    接受熱敏電阻探頭
    400 系列或 500 系列
    磁力攪拌電機型
    步 進
    磁力攪拌速度范圍
    1-2500 轉/分
    默認攪拌速度
    1200 轉/分
    攪拌速度最佳性能
    60-1800 轉/分

     

Luma 40 – 溫控比色皿支架（標準?z 高度?= 8.5 mm 或 15 mm）
TC-1S – 溫度控制器
底板，用于安裝在光學面包板上
BATH 10?– 循環器系統
NIST 可追溯校準和性能數據
附件 – 磁力攪拌棒、管道、電纜、光學狹縫和蓋子

 

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