美國Quantum Northwest、qX2可定制的風冷式 Peltier 控制的比色皿支架，帶有兩個光學端口

美國Quantum Northwest、qX2可定制的風冷式 Peltier 控制的比色皿支架，帶有兩個光學端口

qX2

用戶可定制的風冷式 Peltier 控制的比色皿支架，帶有兩個光學端口

產品概述qX2 是一款風冷、溫控比色皿支架，帶有兩個光學端口，用于吸收光譜或使用 180° 光束路徑進行的任何實驗。

此標準型號具有鋁制底板，可提供無限的用戶可定制安裝選項。我們還提供與來自不同制造商的各種分光光度計兼容的安裝選項，或者立即聯系我們獲取定制安裝解決方案，以滿足您的實驗需求！查看下面的可用選項！

qX2 是我們風冷式比色皿支架系列的一部分，非常適合 0 °C 至 110 °C 的溫度范圍，無需液體冷卻。強制空氣用于去除帕爾貼換熱器中的熱量。不再需要將儀器拴在水桶、冷卻器或其他循環(huán)儲液器上，以設置和保持精確的樣品溫度。

qX2 還能夠以穩(wěn)定的可重現速率攪拌樣品，并能夠在受控的氣體環(huán)境中淹沒光學元件，同時在較低溫度下工作以保持光學清晰度。使用 qX2 在精確保持的溫度下觀察吸光度光譜，或用于溫度斜坡，以觀察吸光度如何隨溫度變化。

購買低溫選件，包括帶窗背心和液體冷卻功能，可在 0 °C 至 -35 °C 的范圍內輕松作 qX2。 購買擴展溫度選件，將作范圍延長至 110 °C 至 150 °C 以上，適用于所有高溫實驗。購買兩者以創(chuàng)建終極的無所不能的設備！

使用 TC 1 溫度控制器作 qX2 很容易，包含在購買價格中。樣品溫度、攪拌速度和升溫速率可以使用前面板上的 TC 1 菜單控制按鈕手動控制，也可以使用 Quantum Northwest 的計算機控制軟件?T-App（可購買）進行控制。

產品特點快速、精確的帕爾貼溫度控制
精確的步進電機驅動磁力攪拌
用于低溫工作的干燥氣體吹掃
用于提高溫度穩(wěn)定性
的蓋子 用于安裝窗口或過濾器
的螺紋插件 可選的擴展溫度范圍
可用于極端溫度的
帶窗護套 用于控制照明體積
的光學狹縫支架 用于移除比色皿
的比色皿升降器用于樣品溫度
的探頭輸入 NIST 可追溯溫度校準

技術規(guī)格

  • 受控的比色皿數量 ………………………… 1
  • 典型用途 ……………………………………….. 吸光度
  • 標準比色皿尺寸（外部） ………………. 12.5 毫米 × 12.5 毫米
  • 每個比色皿的光學端口 ……………….. 2
  • 光端口尺寸 ……………………………….. 12 mm 高 × 10 mm 寬
  • 比色皿 z 高度 ……………………………. 15 毫米
  • 提供帶窗的背心 ………………………… 是的
  • 出廠設置溫度范圍 ……………………… -40 ℃ 至 +110 ℃
  • 溫度范圍易于實現 ……………………… -5 ℃ 至 +110 ℃
  • 低溫選項范圍 ……………………………. -35 ℃ 至 +110 ℃
  • 帶擴展溫度選項的范圍 ……………….. -35 ℃ 至 +150 ℃
  • 溫度精度 ………………………………….. ±0.02 攝氏度
  • 接受熱敏電阻探頭 ……………………… 探頭/QNW3
  • 磁力攪拌電機型 ………………………… 步進
  • 磁力攪拌速度范圍 …………………….. 1-2500 轉/分
  • 默認攪拌速度 …………………………… 1200 轉/分
  • 攪拌速度最佳性能 …………………….. 60-1800 轉/分

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