美國Quantum Northwest、qX3可定制的風冷式 Peltier 控制的比色皿支架、三個光學端口，可用于熒光光譜或使用三窗口光束路徑進行的任何實驗
產品概述qX3 是一款風冷、溫控比色皿支架，具有三個光學端口，可用于熒光光譜或使用三窗口光束路徑進行的任何實驗。
此標準型號具有鋁制底板，可提供無限的用戶可定制安裝選項。我們還提供與來自不同制造商的各種分光光度計兼容的安裝選項，或者立即聯系我們獲取定制安裝解決方案，以滿足您的實驗需求！查看下面的可用選項！
qX3 是我們風冷比色皿支架系列的一部分，非常適合 0 °C 至 110 °C 的溫度范圍，無需液體冷卻。不再需要將儀器拴在水桶、冷卻器或其他循環儲液器上，以設置和保持精確的樣品溫度。
qX3 還能夠以穩定的重現速率攪拌樣品，并能夠在受控的氣體環境中充滿光學元件，同時在較低溫度下工作以保持光學清晰度。使用 qX3 在精確保持的溫度下觀察熒光光譜，或用于升溫，以觀察熒光如何隨溫度變化。
購買低溫選件，包括帶窗背心和液體冷卻功能，可在 0 °C 至 -35 °C 的范圍內輕松作 qX3。 購買擴展溫度選件，將作范圍延長至 110 °C 至 150 °C 以上，適用于所有高溫實驗。購買兩者以創建終極的無所不能的設備！
使用 TC 1 溫度控制器可以輕松作 qX3，包含在購買價格中。樣品溫度、攪拌速度和升溫速率可以使用前面板上的 TC 1 菜單控制按鈕手動控制，也可以使用 Quantum Northwest 的計算機控制軟件?T-App（可購買）進行控制。
產品特點
三個光學端口
快速、精確的溫度控制
精確的步進電機驅動的磁力攪拌
蓋，以提高溫度穩定性
用于安裝窗口或過濾器
的螺紋插件 用于控制照明體積
的光學狹縫支架 可選的擴展溫度范圍
可用于極端溫度的窗口夾套
用于低溫
工作的干燥氣體吹掃 用于樣品溫度的探頭輸入
NIST 可溯源溫度校準
技術規格
- 受控的比色皿數量 ………………………… 1
- 典型用途 ……………………………………….. 熒光
- 標準比色皿尺寸（外部） ………………. 12.5 毫米 × 12.5 毫米
- 每個比色皿的光學端口 ……………….. 3
- 光端口尺寸 ……………………………….. 12 mm 高 × 10 mm 寬
- 比色皿 z 高度 ……………………………. 15 毫米
- 提供帶窗的背心 ………………………… 是的
- 出廠設置溫度范圍 ……………………… -40 ℃ 至 +110 ℃
- 溫度范圍易于實現 ……………………… -5 ℃ 至 +110 ℃
- 低溫選項范圍 ……………………………. -35 ℃ 至 +110 ℃
- 帶擴展溫度選項的范圍 ……………….. -35 ℃ 至 +150 ℃
- 溫度精度 ………………………………….. ±0.02 攝氏度
- 接受熱敏電阻探頭 ……………………… 探頭/QNW3
- 磁力攪拌電機型 ………………………… 步進
- 磁力攪拌速度范圍 …………………….. 1-2500 轉/分
- 默認攪拌速度 …………………………… 1200 轉/分
- 攪拌速度最佳性能 …………………….. 60-1800 轉/分
- 基本套餐
其他需要考慮的產品
30 巴西雷亞爾低溫比色皿支架
刀塔 4四位比色皿更換器
刀塔 6六位溫控比色皿更換器