qX3熒光光譜分析控溫支架是一種溫度控制的樣品池支架，有三個(gè)光學(xué)端口，主要用于熒光光譜分析。qX3是最便宜的型號，可完全由客戶來安裝和改裝完。使用它來設(shè)置和保持精確的樣品溫度，并以穩(wěn)定的可重復(fù)速率攪拌，同時(shí)在受控氣體環(huán)境中清洗反應(yīng)杯。盡管依賴于快速、精確的帕爾貼技術(shù)，但在0°C到110°C的正常運(yùn)行不需要循環(huán)水。可選的低溫選件，包括帶窗護(hù)套和液體冷卻能力，可將qX3從0°C降到-35°C。購買擴(kuò)展溫度選項(xiàng)，可將操作擴(kuò)展至110°C至150°C。對于額外的控制和溫度監(jiān)控，請使用Quantum Northwest的計(jì)算機(jī)控制軟件T-App（可選件）。

qX3光學(xué)控溫樣品臺支架控溫技術(shù)參數(shù)：

控制的反應(yīng)杯數(shù)量：1
典型用途：熒光
標(biāo)準(zhǔn)反應(yīng)杯尺寸（外部）：12.5 mm x 12.5 mm
每個(gè)反應(yīng)杯的光學(xué)端口：3
光學(xué)端口尺寸：12 mm高x 10 mm寬
反應(yīng)杯z-高度：15 mm
帶窗護(hù)套可用：是
出廠設(shè)定溫度范圍：-40°C至+110°C
溫度范圍可實(shí)現(xiàn)：-5°C至+110°C
低溫范圍選項(xiàng)：-35°C至+110°C
擴(kuò)展溫度范圍選項(xiàng)：-35°C至+150°C
溫度精度：±0.02°C
可接受的熱敏電阻探頭：探頭/QNW3
磁力攪拌電動機(jī)類型：步進(jìn)式
磁攪拌速度范圍：1-2500轉(zhuǎn)/分
默認(rèn)攪拌轉(zhuǎn)速：1200轉(zhuǎn)/分
攪拌速度最佳性能：60-1800轉(zhuǎn)/分

qX3 熒光光譜分析控溫支架產(chǎn)品特點(diǎn)

三個(gè)光學(xué)端口
帕爾貼控制可得到快速精確地控制溫度變化
精密步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動磁力攪拌
提高溫度穩(wěn)定性的蓋子
用于安裝窗口或過濾器的螺紋插入件
光學(xué)狹縫夾控制照明體積
可在極端溫度下使用帶窗護(hù)套
低溫作業(yè)用干氣吹掃
樣本溫度探頭輸入
NIST可追蹤溫度校準(zhǔn)