Quantum Northwest qX3帕爾貼溫控支架是一種溫度控制的樣品池支架，有三個光學端口，主要用于熒光光譜分析。qX3帕爾貼溫控支架是最便宜的型號，可完全由客戶來安裝和改裝完。使用qX3帕爾貼溫控支架來設置和保持精確的樣品溫度，并以穩定的可重復速率攪拌，同時在受控氣體環境中清洗反應杯。盡管依賴于快速、精確的帕爾貼技術，但在0°C到110°C的正常運行不需要循環水。可選的低溫選件，包括帶窗護套和液體冷卻能力，可將qX3帕爾貼溫控支架從0°C降到-35°C。購買擴展溫度選項，可將操作擴展至110°C至+150°C。對于額外的控制和溫度監控，請使用Quantum Northwest的計算機控制軟件T-App（可選件）。

qX3帕爾貼溫控支架產品特點；
三個光學端口
帕爾貼控制可得到快速精確地控制溫度變化
精密步進電機驅動磁力攪拌
提高溫度穩定性的蓋子
用于安裝窗口或過濾器的螺紋插入件
光學狹縫夾控制照明體積
可在極端溫度下使用帶窗護套
低溫作業用干氣吹掃
樣本溫度探頭輸入
NIST可追蹤溫度校準

qX3帕爾貼溫控支架技術參數：
控制的比色皿數量：1
典型用途：熒光
標準反應杯尺寸（外部）：12.5 mm x 12.5 mm
每個反應杯的光學端口：3
光學端口尺寸：12 mm高x 10 mm寬
反應杯z-高度：15 mm
帶窗護套可用：是
出廠設定溫度范圍：-40°C至+110°C
溫度范圍可實現：-5°C至+110°C
低溫范圍選項：-35°C至+110°C
擴展溫度范圍選項：-35°C至+150°C
溫度精度：±0.02°C
可接受的熱敏電阻探頭：探頭/QNW3
磁力攪拌電動機類型：步進式
磁攪拌速度范圍：1-2500轉/分
默認攪拌轉速：1200轉/分
攪拌速度最佳性能：60-1800轉/分

qX3帕爾貼溫控支架基本配置：
qX3帕爾貼溫控支架
TC 1B–溫度控制器
NIST可追蹤校準和性能數據
磁力攪拌棒、干氣管道和電纜

qX3帕爾貼溫控支架 可選配件
T-App
/L-qX3 – Low temperature option for qX3 低溫選件
/E-qX3 – High temperature option for qX3 高溫選件
SLITS/qX3
Probe/10k-qX 探頭