QNW 控制器, 溫度控制器, 精密溫控樣品池支架

控制器 溫度控制器 精密溫控樣品池支架溫度控制器溫度控制器

精密溫控樣品池支架:-10.00~+105.00oC (±0.02oC)(可擴展定制-55.00oC到+150.00oC版本)

QUANTUM NORTHWEST(QNW)公司生產光譜分析用的溫控樣品池支架,可以在很寬的溫度范圍內實現快速準確的溫度控制,幾乎可以為任一光譜分析應用提供單個或多個溫控樣品支架,新一代溫控樣品池支架,可以用于紫外/可見光、熒光、圓形二向色、光色散、瞬態吸收、光纖、近紅外、拉曼、中子散射和聲光光譜學。也可提供定制選項。

特點

  • 帕爾貼控制可得到快速精確地控制溫度變化
  • 快速改變溫度,在需要的溫度范圍內降低溫度變化速率
  • 可在非常高或低的溫度范圍內工作
  • 可使用腳本自動控制溫度變化
  • 通過磁性攪拌可使得樣品溫度均勻
  • 每種型號都可以定制以適合不同的光譜儀要求
  • 使用熱敏電阻探測器記錄內部樣品溫度
  • ?溫度控制器TC125單溫度控制器
    • 使用 NIST 可追蹤的溫度計校準
    • 接受標準熱敏探頭用于偵測樣品溫度
    • 接受串口指令用于遠程控制

    每個樣品池支架都附帶一個溫度控制器,單樣品池支架使用 TC 120 溫度控制器,比如 TLC 40、 TLC 50、FLASH 300 和 CD 250,TLC 42 雙樣品池支架使用 TC 225 溫度控制器,可以獨立地控制兩個樣品池的溫度,而四位置 TURRET 400 使用 TC 425 溫度控制器。