溫度控制器溫度控制器
精密溫控樣品池支架:-10.00~+105.00oC (±0.02oC)(可擴展定制-55.00oC到+150.00oC版本)
QUANTUM NORTHWEST(QNW)公司生產光譜分析用的溫控樣品池支架,可以在很寬的溫度范圍內實現快速準確的溫度控制,幾乎可以為任一光譜分析應用提供單個或多個溫控樣品支架,新一代溫控樣品池支架,可以用于紫外/可見光、熒光、圓形二向色、光色散、瞬態吸收、光纖、近紅外、拉曼、中子散射和聲光光譜學。也可提供定制選項。
特點
- 帕爾貼控制可得到快速精確地控制溫度變化
- 快速改變溫度,在需要的溫度范圍內降低溫度變化速率
- 可在非常高或低的溫度范圍內工作
- 可使用腳本自動控制溫度變化
- 通過磁性攪拌可使得樣品溫度均勻
- 每種型號都可以定制以適合不同的光譜儀要求
- 使用熱敏電阻探測器記錄內部樣品溫度
- ?溫度控制器TC125單溫度控制器
- 使用 NIST 可追蹤的溫度計校準
- 接受標準熱敏探頭用于偵測樣品溫度
- 接受串口指令用于遠程控制
每個樣品池支架都附帶一個溫度控制器,單樣品池支架使用 TC 120 溫度控制器,比如 TLC 40、 TLC 50、FLASH 300 和 CD 250,TLC 42 雙樣品池支架使用 TC 225 溫度控制器,可以獨立地控制兩個樣品池的溫度,而四位置 TURRET 400 使用 TC 425 溫度控制器。