QNW 支架 光學支架 TLC400四位置塔式樣品池支架 精密溫控樣品池支架

支架 光學支架 TLC400四位置塔式樣品池支架 精密溫控樣品池支架

精密溫控樣品池支架:-10.00~+105.00oC (±0.02oC)(可擴展定制-55.00oC到+150.00oC版本)

QUANTUM NORTHWEST(QNW)公司生產光譜分析用的溫控樣品池支架,可以在很寬的溫度范圍內實現快速準確的溫度控制,幾乎可以為任一光譜分析應用提供單個或多個溫控樣品支架,新一代溫控樣品池支架,可以用于紫外/可見光、熒光、圓形二向色、光色散、瞬態吸收、光纖、近紅外、拉曼、中子散射和聲光光譜學。也可提供定制選項。

 

特點

  • 帕爾貼控制可得到快速精確地控制溫度變化
  • 快速改變溫度,在需要的溫度范圍內降低溫度變化速率
  • 可在非常高或低的溫度范圍內工作
  • 可使用腳本自動控制溫度變化
  • 通過磁性攪拌可使得樣品溫度均勻
  • 每種型號都可以定制以適合不同的光譜儀要求
  • 使用熱敏電阻探測器記錄內部樣品溫度

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TLC 400 是一款四位置可旋轉塔式樣品池支架,既可以用于吸收測量,又可以用于熒光測量。

  • 可定制以適合不同的 UV/VIS 光譜儀或熒光計要求
  • 附帶一組光學狹縫以限制激發光和自發光
  • 每個樣品池都帶可調速度的磁性攪拌
  • 四個位置對稱
  • 溫度范圍:-25 ~ +105 oC
  • 溫度精度:±0.02 oC

 


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