精密溫控樣品池支架：-10.00~+105.00oC (±0.02oC)(可擴展定制-55.00oC到+150.00oC版本)

QUANTUM NORTHWEST（QNW）公司生產光譜分析用的溫控樣品池支架，可以在很寬的溫度范圍內實現快速準確的溫度控制，幾乎可以為任一光譜分析應用提供單個或多個溫控樣品支架，新一代溫控樣品池支架，可以用于紫外/可見光、熒光、圓形二向色、光色散、瞬態吸收、光纖、近紅外、拉曼、中子散射和聲光光譜學。也可提供定制選項。

特點

• 帕爾貼控制可得到快速精確地控制溫度變化
• 快速改變溫度，在需要的溫度范圍內降低溫度變化速率
• 可在非常高或低的溫度范圍內工作
• 可使用腳本自動控制溫度變化
• 通過磁性攪拌可使得樣品溫度均勻
• 每種型號都可以定制以適合不同的光譜儀要求
• 使用熱敏電阻探測器記錄內部樣品溫度

TLC 42 雙樣品池支架，雙光束光譜儀, 由一對 TLC 40 組合而成用于雙光束光譜儀分析用。

• 樣品和參考可以維持在相同或不同的溫度以進行比較
• 每個樣品池都帶可調速度的磁性攪拌
• 極低溫度使用可選配隔熱罩
• 溫度范圍：-40 ~ +105 oC（標準）| -50 ~ +150 oC（擴展）
• 溫度精度：±0.02 oC