精密溫控樣品池支架:-10.00~+105.00oC (±0.02oC)(可擴展定制-55.00oC到+150.00oC版本)
QUANTUM NORTHWEST(QNW)公司生產光譜分析用的溫控樣品池支架,可以在很寬的溫度范圍內實現快速準確的溫度控制,幾乎可以為任一光譜分析應用提供單個或多個溫控樣品支架,新一代溫控樣品池支架,可以用于紫外/可見光、熒光、圓形二向色、光色散、瞬態吸收、光纖、近紅外、拉曼、中子散射和聲光光譜學。也可提供定制選項。
特點
- 帕爾貼控制可得到快速精確地控制溫度變化
- 快速改變溫度,在需要的溫度范圍內降低溫度變化速率
- 可在非常高或低的溫度范圍內工作
- 可使用腳本自動控制溫度變化
- 通過磁性攪拌可使得樣品溫度均勻
- 每種型號都可以定制以適合不同的光譜儀要求
- 使用熱敏電阻探測器記錄內部樣品溫度
t40 單樣品池支架,吸收應用
t40 是一款單樣品池支架,帶兩個光學端口,主要用于吸收應用。
- 可定制以適合不同的光譜儀要求
- 可調速度的磁性攪拌確保樣品溫度均勻一致
- 低溫工作時可使用干燥空氣降低冷凝
- 極低溫度使用可選配隔熱罩
- 溫度范圍:-40 ~ +110 oC
- 溫度精度:±0.01 oC