溫度控制器溫度控制器

精密溫控樣品池支架：-10.00~+105.00oC (±0.02oC)(可擴(kuò)展定制-55.00oC到+150.00oC版本)

QUANTUM NORTHWEST（QNW）公司生產(chǎn)光譜分析用的溫控樣品池支架，可以在很寬的溫度范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)快速準(zhǔn)確的溫度控制，幾乎可以為任一光譜分析應(yīng)用提供單個(gè)或多個(gè)溫控樣品支架，新一代溫控樣品池支架，可以用于紫外/可見光、熒光、圓形二向色、光色散、瞬態(tài)吸收、光纖、近紅外、拉曼、中子散射和聲光光譜學(xué)。也可提供定制選項(xiàng)。

特點(diǎn)

• 帕爾貼控制可得到快速精確地控制溫度變化
• 快速改變溫度，在需要的溫度范圍內(nèi)降低溫度變化速率
• 可在非常高或低的溫度范圍內(nèi)工作
• 可使用腳本自動(dòng)控制溫度變化
• 通過磁性攪拌可使得樣品溫度均勻
• 每種型號(hào)都可以定制以適合不同的光譜儀要求
• 使用熱敏電阻探測(cè)器記錄內(nèi)部樣品溫度
• ?溫度控制器TC125單溫度控制器
  • 使用 NIST 可追蹤的溫度計(jì)校準(zhǔn)
  • 接受標(biāo)準(zhǔn)熱敏探頭用于偵測(cè)樣品溫度
  • 接受串口指令用于遠(yuǎn)程控制

  每個(gè)樣品池支架都附帶一個(gè)溫度控制器，單樣品池支架使用 TC 120 溫度控制器，比如 TLC 40、 TLC 50、FLASH 300 和 CD 250，TLC 42 雙樣品池支架使用 TC 225 溫度控制器，可以獨(dú)立地控制兩個(gè)樣品池的溫度，而四位置 TURRET 400 使用 TC 425 溫度控制器。