Quantum Northwest Brr 20/8454 吸收光譜用溫控支架,帕爾貼控制的比色皿支架,用于8452、8453和8454二極管陣列系統,具有擴展的低溫響應

Brr 20/8454是一種溫度控制比色皿支架,適用于+110°C至-55°C的溫度范圍。它設計用于8452、8453和8454二極管陣列系統的開放式樣品室。設置并保持精確的樣品溫度,并以穩定的重復速率攪拌,同時將比色皿浸泡在受控的氣體環境中。本產品配有帶窗護套,以提高低溫性能,并最大限度地減少可能在窗片上形成的冷凝。循環水用于排出帕耳帖熱交換器中的熱量。使用安捷倫ChemStation軟件或者使用配套的TC 1B溫度控制器控制操作Brr 20/8454。對于額外的控制和溫度監控,請購買QNW的計算機控制軟件T-App。

產品特點
快速、精確的帕耳帖溫度控制-55°C至+110°C
精密步進電機驅動的磁力攪拌
低溫作業用干氣吹掃
隔熱蓋,提高溫度穩定性
用于安裝窗口或過濾器的螺紋插件
用于取出比色皿的比色皿升降器
樣本溫度的探針輸入
Cary 8454的安裝底座和立柱
NIST可追蹤溫度校準
化學站操作驅動器

Brr?20/8454技術參數
比色皿數量 1
應用 吸收
標準比色皿尺寸(外部) 12.5?mm?x?12.5?mm
比色皿的光學端口 2
光學端口尺寸 12?mm?high?x?10?mm?wide
比色皿z高度 15mm
出廠設置溫度范圍 -55°C至+110°C
容易達到的溫度范圍 -55°C至+110°C
溫度精度 ±0.02 °C

 


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