qX2/8454是一種溫控比色皿支架，帶有兩個光學端口，用于8452、8453和8454二極管陣列系統的開放式樣品室。設置并保持精確的樣品溫度，并以穩定的重復速率攪拌，同時將反應杯浸泡在受控的氣體環境中。盡管依賴快速、精確的帕爾貼技術，但從0°C到110°C的正常運行不需要循環水。購買低溫選項，包括帶窗護套和液體冷卻功能，可將qX2/8454的溫度從0°C降至-35°C。購買擴展溫度選項，可將操作溫度從110°C以上延長至150°C。使用安捷倫化學站軟件（現在可免費下載Quantum Northwest驅動程序）操作qX2/8454，或使用TC 1B溫度控制器。對于額外的控制和溫度監控，請加購Quantum Northwest的計算機控制軟件T-App。
產品特點
快速、精確的帕耳帖溫度控制
精密步進電機驅動的磁力攪拌
低溫作業用干氣吹掃
提高溫度穩定性
用于安裝窗口或過濾器的螺紋插件
光學狹縫支架，用于控制照明體積
用于取出比色皿的升降器
樣本溫度的探針輸入
Cary 8454的安裝底座和立柱
NIST可追蹤溫度校準
| qX2/8254技術參數 | |
| 比色皿數量 | 1 |
| 應用 | 吸收 |
| 標準比色皿尺寸（外部） | 12.5?mm?x?12.5?mm |
| 比色皿的光學端口 | 2 |
| 光學端口尺寸 | 12?mm?high?x?10?mm?wide |
| 比色皿z高度 | 15mm |
| 出廠設置溫度范圍 | -40°C至+110°C |
| 容易達到的溫度范圍 | -5°C至+110°C |
| 溫度精度 | ±0.02 °C |
