qX2吸收光譜用控溫支架,風冷,帕爾貼控制反應杯支架,帶兩個光學端口, 測量吸收光譜用,標準溫度0°C到110°C。擴展附件用于-35°C至+-150°C。
qX2吸收光譜控溫支架是一個溫度控制的反應杯支架,帶有兩個光學端口,用于吸收光譜或可使用這兩個端口執行的實驗。使用qX2設置并保持精確的樣品溫度,并以穩定的可重復速率攪拌,同時將反應杯浸泡在受控的氣體環境中。盡管依賴于快速、精確的珀耳帖技術,從0°C到110°C的正常運行不需要循環水。購買低溫選項,包括帶窗背心和液體冷卻功能,從0°C到-35°C操作qX2。購買擴展溫度選項,將操作擴展到110°C到150°C以上。使用TC 1B溫度控制器控制qX2。對于額外的控制和溫度監控,請使用Quantum Northwest的計算機控制軟件T-App。
產品特點
快速、精確的珀耳帖溫度控制
精密步進電機驅動磁力攪拌
低溫工作用干氣吹掃
提高溫度穩定性的蓋子
安裝窗口或過濾器的螺紋插入件
控制照明體積的光學狹縫夾持器
用于移除反應杯的反應杯升降器
樣本溫度探頭輸入
NIST可追蹤溫度校準
qX2 帕爾貼溫控支架技術規格:
控制反應杯數:1
應用:吸收光譜
標準反應杯尺寸(外部)12.5 mm x 12.5 mm
每個反應杯的光學端口:2個
光學端口尺寸:12 mm高x 10 mm寬
反應杯z高度15 mm
提供有窗背心:有
工廠設定溫度范圍:-40°C至+110°C
容易達到的溫度范圍:-5°C至+110°C
低溫選項范圍:-35°C至+110°C
擴展溫度選項范圍:-35°C至+150°C
溫度精度±0.02°C
接受熱敏電阻探頭:探頭/QNW3
磁力攪拌電機類型:步進電機
磁攪拌轉速范圍:1-2500rpm
默認攪拌速度:1200 rpm
qX2 基本包裝:
qX2–溫控反應杯支架
TC 1B–溫度控制器
NIST可追蹤校準和性能數據
磁力攪拌棒、干氣管道和電纜
攪拌速度最佳性能:60-1800 rpm
可選配件:
T-App
/E-qX2 –高溫擴展for qX2
/L-qX2 – 低溫擴展 for qX2
SLITS/qX2
Probe/10k-q
適用光譜儀
qX2/8454 | 8452, 8453 and 8454 |
qX2/8453 | ?Olis Upcycled HP 8453 |
qX2/8452 | Olis Computerized HP 8452 |
qX2/Cary60 | Cary 60 (or Cary 50) UV/Vis |
qX2/Cary300 | Cary 100 and Cary 300 |
qX2/Cary5000 | Cary 4000, 5000, 6000i and 7000 UV/Vis/NIR |
qX2/Dynamica | Dynamica Halo DB-30 UV/Visible |
qX2/Hitachi | Hitachi |
qX2/PE265 | ?Perkin Elmer LAMBDA 265 UV/Vis |
qX2/PE365 | Perkin Elmer LAMBDA 365 UV/Vis |
qX2/PE465 | Perkin Elmer LAMBDA 465 UV/Vis |
qX2/PE1050 | Perkin Elmer LAMBDA 650, 750, 850, 950 and 1050 UV/Vis/NIR |
qX2/Shimadzu | ShimadzuUV-VIS |
qX2/UV1280 | Shimadzu UV-1280 UV-Vis |
qX2/EVO | Evolution 300 and 600 |
qX2/DS5 | Edinburgh Instruments DS5 Dual Beam UV-Vis |
qX2/std | 空氣冷卻,帕爾貼控制反應杯持用于標準的基礎上和支柱 |
qX2 | 用戶自定義 |