SENS4,VDM-3,陶瓷膜片真空變送器,PVD鍍膜,爐內真空,空間模擬,VDM-3 傳感器專為先進的真空工藝的可靠測量和控制而設計，適用于廣泛的工業和科研應用。多種型號的 VDM-3 傳感器可滿足不同應用場景的各種需求。
VDM-3 陶瓷膜片真空變送器
| 真空測量 |
基礎參數
- 量程范圍：0.1~1333 mbar
- 測量原理：陶瓷膜片壓阻式（氣體類型無關）
- 耐腐蝕性：兼容強酸/有機溶劑
核心功能
- 雙傳感器復合測量：
- 絕對真空壓力測量
- 大氣壓參考式相對壓力測量
- 真空系統排氣控制：
- 表壓測量模式
- 大氣壓切換功能
技術優勢
- 干式氧化鋁陶瓷膜片（無油污風險）
- 可選派瑞林防腐涂層（醫療級疏水材料）
- 防護擋板選配（防顆粒沉積）
- 耐受2 bar絕壓（29 psia）瞬時過載
接口與控制
- 模擬輸出：支持自定義標定曲線，兼容主流品牌替換
- 數字接口：RS-232/485抗干擾傳輸
- 固態繼電器：3組UL/CSA認證觸點（無電弧/零EMI）
兼容性設計
- 引腳定義兼容MKS902B等工業標準
- 模擬輸出/數字協議可仿真他廠產品
應用與市場
VDM-3 傳感器專為先進的真空工藝的可靠測量和控制而設計，適用于廣泛的工業和科研應用。多種型號的 VDM-3 傳感器可滿足不同應用場景的各種需求。
PVD
PVD鍍膜
VPM-5 配備可維護的擋板保護，適用于物理氣相沉積（PVD）鍍膜應用，并具有較長的使用壽命。
爐內真空應用
工業爐
在真空熱處理過程中測量和控制真空?？蛇x配擋板和鍍層保護，以滿足工業應用需求。
空間模擬
空間模擬
在模擬太空惡劣環境時，測量真空氣體壓力。
氫氣真空
氫氣供應
用于測量和監控氫氣儲存罐和供氣管線中的隔熱真空。
半導體
半導體行業
在半導體應用中進行 CVD、PVD 和前級真空測量?？蛇x配耐腐蝕陶瓷傳感器。
壓縮機服務
利用 VPM-5 提供的低壓測量能力，用于質譜儀設備。
VDM-3 陶瓷膜片真空變送器技術規格
測量參數
??量程范圍：0.1~1333 mbar（0.1~1000 Torr）
??測量原理：陶瓷膜片壓阻式
??精度：
- 100~1333 mbar：讀數的±0.5%
- 1~99.9 mbar：滿量程的±0.05%（基于1333 mbar）
??滯后性（ISO19685:2017）： - 0.1~10 mbar：1%
- 10~1200 mbar：0.1%
電氣特性
‖?模擬輸出：
- 分辨率：16位（150 μV）
- 更新率：560 Hz
‖?響應時間（ISO 19685:2017）：<20 ms
‖?溫度補償范圍：+10~+50°C
固態繼電器
◆?設定點范圍：1~1333 mbar（0.75~1000 Torr）
◆?觸點容量：50V/100mA
◆?認證：
- UL認證（文件號E76270）
- CSA認證（證書號1175739）
- EN/IEC 60950-1認證
環境條件
√?工作溫度：-20~+50°C
√?介質溫度：-20~+50°C
√?存儲溫度：-40~+80°C
√?烘烤溫度（非工作狀態）：+80°C
√?最大介質壓力：2 bar絕壓（29 psia）
√?爆破壓力：4 bar絕壓（58 psia）
√?防護等級（EN 60529/A2:2013）：IP40
√?濕度（IEC 68-2-38）：98%（無冷凝）
電源
※?供電電壓：12~30 VDC
※?功耗：≤240 mW
※?保護功能：
- 反極性保護
- 過壓保護
- 100mA自恢復保險絲
材料
??外殼：SS 1.4307/AISI 304L/鋁合金6061
??真空法蘭（接觸介質）：SS 1.4401/AISI 316
??標準版真空接觸材料：
316不銹鋼/Viton?/氧化鋁陶瓷（Al?O?）
??派瑞林保護版：
316不銹鋼/Viton?/派瑞林涂層
??工藝泄漏率：<1×10?? mbar·l/s
認證
◇?CE認證：符合EMC指令2014/30/EU
◇?RoHS合規：符合EU 2015/863指令
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