SPECTROGON,平面光柵,高效衍射光柵
在訂購平面光柵時(shí)，請(qǐng)使用以下示例格式：
P 1200 H x W x Thk 700-900 nm (TM+TE)/2 (-1) 恒定偏轉(zhuǎn)角度 10°
P 表示平面，L 表示Littrow光柵（可選信息）
1200 是每毫米凹槽密度（凹槽頻率）
H 是與光柵凹槽平行的空白尺寸（毫米）
W 是與光柵凹槽垂直的空白尺寸（毫米）
Thk 是空白厚度（毫米）
700-900 nm 是期望的優(yōu)化范圍。也可以指定特定波長(zhǎng)或具有峰值波長(zhǎng)的范圍
平均 (TM+TE)/2 (-1) 是希望優(yōu)化的偏振狀態(tài)和衍射階數(shù)。也可以指定TM和TE
恒定偏轉(zhuǎn)角度 10° 是光柵應(yīng)該優(yōu)化的配置。也可以指定恒定入射角度 α°。
凹槽密度：Spectrogon定期制造600到3600線每毫米的凹槽密度。如需更低或更高的凹槽密度，請(qǐng)聯(lián)系我們的銷售團(tuán)隊(duì)。
波長(zhǎng)范圍從紫外線到大約2000納米
標(biāo)準(zhǔn)尺寸：25 x 25 x 6 毫米，30 x 30 x 6 毫米，50 x 50 x 6 毫米，50 x 50 x 10 毫米，58 x 58 x 10 毫米，64 x 64 x 10 毫米，90 x 90 x 16 毫米，110 x 110 x 16 毫米，100 x 140 x 20 毫米，120 x 140 x 20 毫米
W、H、Dia 的標(biāo)準(zhǔn)公差：± 0.2 毫米，Thk ± 0.5 毫米。CA > 90% 的每個(gè)尺寸。
其他規(guī)格需求可根據(jù)要求提供，聯(lián)系我們的銷售部門！
平面光柵類型是高分辨率光譜學(xué)和對(duì)低雜散光水平要求較高的應(yīng)用的選擇。使用這些光柵，光譜線將更加清晰，準(zhǔn)確地位于波長(zhǎng)上，并且在吸收線的情況下，比市場(chǎng)上其他光柵更深。
極低的雜散光
這些光柵是用兩束高度集中、干凈和均勻的光束全息記錄的，這些光束產(chǎn)生直、等間距的凹槽。從這些光柵衍射出的光不含幽靈譜線。隨機(jī)散射光與優(yōu)質(zhì)的表面鋁鏡的散射光一樣低。
優(yōu)化效率
凹槽剖面為對(duì)稱正弦波，凹槽深度經(jīng)過優(yōu)化，適用于光譜區(qū)域。為了獲得最高效率，這些光柵最好用于僅存在兩個(gè)衍射順序（-1 和 0）的配置，即偏好高凹槽頻率。在這種情況下，效率與或優(yōu)于刻線光柵。即使在最高凹槽頻率下，整個(gè)光柵表面的凹槽深度變化也非常小。這意味著您可以充分利用所有光柵表面，在儀器中實(shí)現(xiàn)最大的通過率。
平坦的衍射波前結(jié)構(gòu)
平坦的光柵表面、非常直、等間距的凹槽使得可能實(shí)現(xiàn)最大的波長(zhǎng)分辨率。
準(zhǔn)確的凹槽頻率
光柵的凹槽頻率在標(biāo)稱值的 ±0.2線每毫米內(nèi)精確。這意味著您的儀器中可以獲得可靠的波長(zhǎng)讀數(shù)。
應(yīng)用
平面光柵設(shè)計(jì)滿足尺寸、波長(zhǎng)范圍、入射角和衍射角度的規(guī)格要求，但不適用于光學(xué)系統(tǒng)的特定焦距。因此，只要四個(gè)前述參數(shù)相同，可以在不同的光學(xué)配置中使用同一光柵。
光譜儀器
光譜儀器通常由入射縫、準(zhǔn)直器、色散元件、聚焦光學(xué)和有時(shí)出射縫組成。進(jìn)入入射縫的輻射被準(zhǔn)直器收集，通常是一個(gè)凹面鏡。
色散元件，此處是光柵，將輻射偏轉(zhuǎn)到依賴于波長(zhǎng)的方向。分散的輻射被聚焦到圖像平面，在那里形成光譜（入射縫的一系列單色圖像）。
單色儀
在單色儀中，有一個(gè)出射縫，它傳輸光譜的窄部分。入射和出射縫是固定的，通過旋轉(zhuǎn)光柵來掃描光譜。因此，光柵在入射光和衍射光之間有一個(gè)恒定的角偏轉(zhuǎn)。這適用于大多數(shù)類型的單色儀，如Czerny-Turner、Ebert和Littrow類型。
波長(zhǎng)刻度
對(duì)于恒定偏轉(zhuǎn)安裝，并且有一個(gè)角度偏差，光柵方程可以寫為（假設(shè) -1 階衍射）：
sin(α + δ/2) = λ/(2dcos δ/2)
我們看到，單色儀傳輸?shù)牟ㄩL(zhǎng)與光柵旋轉(zhuǎn)角度的正弦成比例。單色儀通常配備一個(gè)特殊的正弦桿機(jī)構(gòu)，便于波長(zhǎng)讀數(shù)。
光通過量
基于光柵的光譜儀器的光通過量取決于多種因素，如光源的輻射度、光學(xué)系統(tǒng)的F數(shù)、入射縫的寬度和高度、儀器的光譜帶寬以及檢測(cè)器的靈敏度。
在單色儀中，使用高頻全息光柵比使用傳統(tǒng)刻線較低頻率的光柵效率更高，盡管傳統(tǒng)光柵的效率可能更高。高頻率的光柵提供更高的波長(zhǎng)分散。對(duì)于給定的波長(zhǎng)分辨率，因此可以在單色儀中使用更寬的入射縫，從而改善光通過量。
光譜儀
在光譜儀中，光柵固定，探測(cè)器同時(shí)檢測(cè)儀器焦平面中的不同光譜成分。現(xiàn)代儀器通常使用陣列探測(cè)器。具有平面光柵的光譜儀通常制成改進(jìn)的Czerny-Turner配置，特別設(shè)計(jì)為提供平坦的焦平面。
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