VWC型真空熱處理爐

VWC型真空熱處理爐可用于多種熱處理工藝，例如低壓滲碳，淬火，回火，退火或釬焊。在具有圓柱形加熱室的真空爐中，可用空間由石墨圓柱體組成，在其中放置有弧形石墨帶加熱元件。氣體循環(huán)系統(tǒng)可實現(xiàn)均勻淬火。這種類型的熔爐特別適合大型固體部件。

優(yōu)點：

• 普遍適用
• 即使在最困難的的條件下，處理結果也是一致的
• 加熱和冷卻時具有無與倫比的溫度均勻性
• 加熱和冷卻速率根據(jù)您的要求
• 符合當前所有航空標準（AMS 2750 E，NADCAP等）
• 使用觸摸屏進行簡單安全的操作
• 自己的控制系統(tǒng)“ hestia”
• 服務友善
• 高效節(jié)能
• 加熱室采用石墨或金屬絕緣，可實現(xiàn)最佳絕緣值
• 通過新的循環(huán)概念實現(xiàn)最佳對流加熱
• 淬火壓力高達20 bar
• 特殊的噴嘴布置和三維氣流，無與倫比的淬火性能
• 氣體循環(huán)器即使在真空下也可全速運轉

標準尺寸：

可用空間類型
（WxHxL，單位：mm）

VWC 446400 x 400 x 600
VWC 669600 x 600 x 900
VWC 9812 900 x 800 x 1200

其他尺寸和技術數(shù)據(jù)可根據(jù)要求提供。