?我們的高效Hydra動態(tài)源電子槍提供獲得專利和屢獲殊榮的模塊化磁束聚焦系統(tǒng)，具有增強的光束準直性，消除了光束卷曲。我們創(chuàng)新的Hanks Hydra 動態(tài)源電子槍設計由一或兩個緊湊的坩堝和發(fā)射器陣列組成，它們彼此線性平移，可同時提供多達六種不同材料的共沉積。
Hydra 動態(tài)源電子槍的尺寸也是標準e-Guns的2/3，而磁場效率則提升了350%。
Hydra 動態(tài)源電子槍主要特點：
優(yōu)化的發(fā)射器和掃描線圈組件
消除了磁極組件，垂直安裝的磁鐵減少了磁通量
0-200 Hz 掃描，重復性好，均勻蒸發(fā)，無“隧道效應”及源材料噴發(fā)
精確穩(wěn)定的蒸發(fā)速率，最低可達1-2 A/sec
比傳統(tǒng)蒸發(fā)源小35%，在相同體積、蒸發(fā)速率和功率容量下
提供高真空（HV，2×10^-9 Torr）和超高真空（UHV，2×10^-11 Torr）版本
適合順序蒸發(fā)或共同蒸發(fā)
提供電源、坩堝襯墊及其他配件
動態(tài)源電子槍主要型號：
Single — 7 cc 至 156 cc 單坩堝 / 1 發(fā)射器 – 6-20 kW
Single Rotary — 7 cc 至 25 cc – 4 坩堝 / 1 發(fā)射器 – 6 & 10 kW
Twin™ — 10 cc, 15 cc, 40 cc – 2 坩堝 / 2 發(fā)射器 – 10 & 15 kW
Triad™ — 10 cc, 15 cc, 40 cc – 3 坩堝 / 3 發(fā)射器 – 6 & 10 kW
Quadra — 10 cc, 15 cc, 40 cc – 4 坩堝 / 4 發(fā)射器 – 6 & 10 kW
Hydra-1™ — 單陣列 5 個坩堝 / 1-3 發(fā)射器（詳細信息見 Hydra 描述）
Hydra-2™ — 雙陣列 5 個坩堝 / 1-3 發(fā)射器，共計 10 個坩堝 / 2-6 發(fā)射器（詳細信息見 Hydra 描述）
Hanks HM2 e-Guns 受以下一個或多個專利保護：4,835,789; 4,891,821; 4,947,404
Hydra動態(tài)源電子槍配置高效利用空間，支持四種不同的六個坩堝組合，以及最多42種兩金屬組合的排列，在單次真空抽氣中實現(xiàn)共沉積。
Hydra動態(tài)源電子槍消除了相鄰源之間的相互影響，無需復雜的束流方向和笨重的場屏蔽組件。因此，共蒸發(fā)設計允許源間距離接近，從而實現(xiàn)均勻涂層和材料相互作用。此外，每個源的獨立水冷卻防止蒸汽積聚，并且每個源配有獨立的掃頻線圈，確保每個源的操作參數(shù)完全獨立于相鄰源。
Hydra-1 & 2 技術參數(shù)：
| 特征 | 10 kW Model | 15 kW Model |
| 最大功率 | 10 kW | 15 kW |
| 坩堝體積 | 10/15 cc | 40 cc |
| 發(fā)射電壓 | 10 kV | 10 kV |
| 發(fā)射電流 | 0 to 1.0 A | 0 to 1.5 A |
| 燈絲 | 700 W | 700 W |
| 電子束偏轉 | 220° | 220° |
| 光束光斑尺寸 | 0.25″ diameter | 0.25″ diameter |
| 蒸發(fā)率 (for 鋁) | 1 gm/min at 10 kW 3.6 microns at 25 cm | 1.5 gm/min at 15 kW 50,000 ? min |
| X和Y掃描 | 超單帶掃描（0-200Hz） | 超單帶掃描（0-200Hz） |
| 水 | 3.0 gpm/坩堝，普通回流（高達30 gpm） | 3.0 gpm/坩堝，普通回流（高達30 gpm） |
| 坩堝材料 | OFE copper | OFE copper |
| 烘烤溫度 | 230°C (446°F) | 230°C (446°F) |
| 電子槍尺寸——單陣列 | 6.25″ x 5.5″ x 15″ | 6.25″ x 5.75″ x 15″ |
| 電子槍尺寸——雙陣列 | 6.25″ x 11″ x 15″ | 6.25″ x 11.5″ x 15″ |
電源供應：10 kW型號：10kW+e-Gun™電源； 15 kW型號：12kW e-Gun?電源
