蒸發源
系列：Hanks

Hydra™ Static 系列通過有效利用空間，提供復雜的共沉積工藝和四種或更多不同材料的共蒸發。獨特的模塊化磁性設計可產生更高效的電子束。Hyper-Unimelt 200 Hz 掃蕩消除了隧道和源材料噴發。插入式發射器組件和掃描線圈組件使源更易于維護。

Hydra™ Static 系列通過有效利用空間，提供復雜的共沉積工藝和四種或更多不同材料的共蒸發。獨特的模塊化磁性設計可產生更高效的電子束。Hyper-Unimelt 200 Hz 掃蕩消除了隧道和源材料噴發。插入式發射器組件和掃描線圈組件使源更易于維護。

燈絲對準簡單，電子準直效率更高，燈絲變形最小，無需電子試驗。非常適合共蒸發！

專利：4,835,789;4,891,291;4,947,404

·同時操作六 （6） 種不同的材料（可根據要求提供額外的坩堝設計）

·全金屬密封，完全兼容 UHV，測量極限壓力：2×10-11 Torr。

·Hydra™ 消除了相鄰源的交互

·獲得專利的磁性設計允許靠近源，以實現均勻的涂層和材料相互作用

·每個坩堝源都獨立進行水冷，以防止蒸汽積聚

·每個源坩堝都有單獨的掃描線圈，確保每個源的獨立操作完整性，消除來自相鄰源的串擾推理

·可拆卸的坩堝煙囪設計，便于清潔沉積物堆積物

·H2O 冷卻發射器底板和坩堝

·提供 10kW 或 15kW

·坩堝體積尺寸：10cc、15cc、40cc（可根據要求提供定制尺寸）

·270° 光束偏轉，燈絲外殼可隔離任何顆粒暴露

·提供動態坩堝設計

·易于拆卸的發射器組件設計

·Thermionics 的 Hyper-Unimelt Sweep 設計（低速率或高速率的最佳控制）

·提供水平和垂直源法蘭安裝設計

??消除光束卷曲

??源附帶 UHV 額定掃頻線圈 （200 Hz）

??消除極片

??輕松對線

??更高效的電子準直

??最小的細絲變形

??消除電子尾

??全封閉發射器組件可防止顆粒

建設

??每個源都是獨立的水冷式

??旨在消除串擾干擾