Hanks Hydra Static系列多坩堝電子槍通過高效利用空間，實現了四種或更多不同材料的復雜共沉積工藝和共蒸發。Hanks Hydra Static系列多坩堝電子槍獨特的模塊化磁性設計能夠更加高效地生成電子束。Hyper-Unimelt 200 Hz 掃描技術可以消除隧道效應和源材料噴發問題。插入式發射器組件和掃描線圈組件使得蒸發源更易于維護。
Hanks Hydra Static系列多坩堝電子槍具備簡單的燈絲校準、更高效的電子準直、最小化燈絲變形以及消除電子試驗的優點，非常適合用于共蒸發！
滿足專利：4,835,789；4,891,291；4,947,404
Hanks Hydra Static系列多坩堝電子槍主要特征：
· 可同時操作六（6）種不同材料（可根據要求提供其他坩堝設計）
· 全金屬密封，完全兼容超高真空（UHV），基底壓力測量值：2×10^-11 Torr
· Hydra™ 設計消除了相鄰源之間的相互作用
· 專利磁性設計允許源頭靠近，實現均勻涂層和材料相互作用
· 每個坩堝源都獨立水冷，以防止蒸汽積聚
· 每個源坩堝有獨立的掃描線圈，確保每個源的獨立操作完整性，消除相鄰源的串擾干擾
· 可拆卸坩堝煙囪設計，方便清理沉積物
· 水冷發射器基板和坩堝
· 提供10kW或15kW選項
· 坩堝容量：10cc、15cc、40cc（可根據要求提供定制尺寸）
· 270°光束偏轉，燈絲外殼隔離任何顆粒暴露
· 動態坩堝設計可選
· 易于拆卸的發射器組件設計
· Thermionics的Hyper-Unimelt掃頻設計（最佳低速或高速控制）
· 提供水平和垂直源法蘭安裝設計
· 消除光束彎曲
· UHV級掃描線圈隨源頭提供（200 Hz）
· 消除極片
· 簡單的燈絲校準
· 更高效的電子準直
· 最小燈絲變形
· 消除電子尾巴
· 完全封閉的發射器組件可防止顆粒積聚
· 每個源獨立水冷
· 設計消除串擾干擾
