VacTechniche高真空鍍膜機(jī)DCR/DCT、碳沉積、DCR脈沖碳纖維蒸發(fā)、DCR臺(tái)式碳涂布機(jī)

DCR臺(tái)式碳涂層機(jī)
臺(tái)式涂布機(jī)系統(tǒng)
SEM/TEM樣品制備真空技術(shù)
臺(tái)式碳涂層系統(tǒng)緊湊型碳纖維涂層系統(tǒng)，適用于掃描電子顯微鏡（SEM）、透射電子顯微鏡（TEM）和X射線分析（EDX）中的樣品制備。

DCR是一種旋轉(zhuǎn)泵送碳涂層機(jī)，適用于SEM樣品制備、EDS/WDS和薄膜應(yīng)用。
DCT是一種渦輪泵式碳涂層機(jī)，非常適合FE-SEM、EDS/WDS、TEM、EBSD和薄膜應(yīng)用。
這種高真空鍍膜機(jī)提供高質(zhì)量的均勻碳膜，具有細(xì)晶粒尺寸，適用于需要高分辨率和高質(zhì)量表征的樣品

DCR配備了一個(gè)7英寸彩色觸摸屏面板，使用用戶友好的軟件來控制沉積過程數(shù)據(jù)。真空和涂層順序信息可以在觸摸屏上以數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)或曲線的形式觀察到，最后300層涂層保存在歷史頁面上。
DCR可適應(yīng)各種樣品臺(tái)配置，以滿足特定的用戶需求。這些樣品臺(tái)設(shè)計(jì)為可旋轉(zhuǎn)、高度可調(diào)且易于更換。 旋轉(zhuǎn)行星樣品臺(tái)是在多孔試樣上實(shí)現(xiàn)均勻涂層的絕佳選擇。

DCR蒸發(fā)
脈沖碳纖維
在臺(tái)式真空碳涂層系統(tǒng)（DCR）中，我們引入了一項(xiàng)尖端功能——脈沖碳纖維蒸發(fā)。這項(xiàng)突破性的技術(shù)增強(qiáng)了沉積過程，對(duì)涂層過程提供了無與倫比的控制，同時(shí)減少了不需要的碎片的產(chǎn)生。與傳統(tǒng)的碳沉積方法不同，DCR的脈沖碳纖維蒸發(fā)確保了更可控和高效的沉積，從而產(chǎn)生了更優(yōu)質(zhì)、更清潔、更精確的碳涂層。這一進(jìn)步為研究人員和專業(yè)人士尋求更高質(zhì)量的碳涂層、減少污染和提高性能打開了新的大門。

特點(diǎn)

用于實(shí)時(shí)厚度測量（1nm精度）的石英晶體監(jiān)測系統(tǒng)。
脈沖或閃光碳纖維涂層模式。
直觀的觸摸屏，可快速輸入數(shù)據(jù)，控制和監(jiān)控涂層過程。
用戶友好的軟件，可以通過網(wǎng)絡(luò)進(jìn)行更新。
能夠記錄和繪制涂層參數(shù)圖。
易于更換試樣臺(tái)（標(biāo)準(zhǔn)為旋轉(zhuǎn)臺(tái)）。

規(guī)格

極限真空度：小于50毫托
170毫米外徑x 140毫米高派熱克斯氣缸室
0-25A開關(guān)脈沖直流電源
尺寸：450 x 500 x 370毫米（高x寬x深）
公用設(shè)施：220伏-110伏，50/60赫茲，2.2/1.7千瓦
手動(dòng)或半自動(dòng)/全自動(dòng)沉積控制
精密電子泄漏閥，用于精細(xì)控制真空壓力
涂層參數(shù)的實(shí)時(shí)圖
通過USB端口將涂層數(shù)據(jù)圖簡單傳輸?shù)絇C
裝運(yùn)重量：46公斤

自動(dòng)

直觀的觸摸屏控制涂層過程和快速數(shù)據(jù)輸入
用戶友好的軟件，可通過網(wǎng)絡(luò)更新
半全自動(dòng)碳纖維/棒沉積工藝
自動(dòng)模式下的可重復(fù)和可編程涂層過程
脈沖或閃光碳纖維涂層模式
脈沖或斜坡碳棒涂層模式
記錄并繪制涂層參數(shù)圖
存儲(chǔ)可重復(fù)沉積的涂層配方