脈沖激光二極管
沉積和熱蒸發(fā)器
多功能脈沖激光沉積和熱蒸發(fā)系統(tǒng)-PLD-T是一種高真空薄膜沉積系統(tǒng),能夠通過脈沖激光沉積和熱蒸發(fā)技術(shù)沉積不同的材料。它可以在基底上沉積復(fù)雜的材料和晶體結(jié)構(gòu),只需很少的設(shè)置。
脈沖激光沉積技術(shù)導致有效的非熱燒蝕,并保持靶材料的化學計量。通過應(yīng)用這種方法,可以沉積諸如氮化物、氧化物、超晶格、聚合物和復(fù)合材料之類的材料。
PLD-T
熱蒸發(fā)源
(船/籃子/線圈)
脈沖激光沉積系統(tǒng)可以配備三個獨立的熱阻熱蒸發(fā)源。蒸發(fā)源支架的良好設(shè)計不會導致污染物從源材料轉(zhuǎn)移到其他材料。源座長度可在5~10 cm范圍內(nèi)調(diào)節(jié),滿足客戶要求。
特征
- 轉(zhuǎn)速可調(diào)的目標機械手
- 3熱源和特殊引線
- 石英晶體實時監(jiān)控系統(tǒng)厚度測量(1納米精度)
- 直觀的觸摸屏來控制涂層工藝和快速數(shù)據(jù)輸入
- 等離子清洗
- 可通過網(wǎng)絡(luò)更新的用戶友好軟件
- 配有旋轉(zhuǎn)樣品架
- 配有電子快門
- 裝備到機動船選擇
- 500°C襯底加熱器
規(guī)范
- 高真空渦輪分子泵
- 隔膜前級泵
- 全量程真空測量儀
- 5 KW大電流電源
- 精密質(zhì)量流量計(MFC)
- 能夠記錄和繪制涂層參數(shù)圖
- 轉(zhuǎn)移曲線和沉積過程通過USB端口向PC傳輸數(shù)據(jù)