VacTechniche等離子清洗機PCA M2V03VT-C
VacTechniche系列等離子清潔器/灰化器（臺式反應室）裝置可以促進原子污染的去除、氧化物的去除以及親水/疏水等離子體處理。
在40kHz、400KHz微波和13.56MHz射頻下，等離子體的性質存在許多差異。
然而，在某些應用中可能使用所有這些頻率。

一般來說，在低頻時，電子和離子都會在等離子體介質中發生位移。離子帶有負電荷或正電荷，離子的質量比電子的質量大得多。

• 在低頻，有足夠的機會移動離子和電子。
• 在更高的頻率離子移動的機會就越少。
• 允許等離子體密度在高頻下增加。

• 射頻頻率下的等離子體密度通常高于低頻(LF)下的等離子體密度。

• 此外，由于具有高質量的離子的加速，樣品和產品表面的濺射現象或由室壁引起的污染在LF頻率中更高。導致更多的熱負荷轉移到樣品上，這是因為加速的粒子以高速率碰撞。

高頻是在產品或樣品表面進行化學反應的最佳選擇。由于電子產生離子和自由基，產生等離子體。

在這種情況下，離子的活動性很小，它們不具有破壞性，并且在這些條件下，在產品或樣品的表面上有大量的離子和自由基，它們易于發生化學反應。

此外，隨著頻率的增加，內部偏置等其他參數也會降低。
隨著頻率的增加(朝向微波)，等離子體從體積均勻的等離子體變為表面等離子體(由于穿透深度的限制)。
和其他不同之處…

關鍵領域:

• 一種或兩種氣體輸入選項氬氣、氧氣、氮氣、氫氣裂解用合成氣。
• 流量計或質量流量控制器
• 三種頻率可供選擇。(如果在構建階段計劃，RF可以升級)
• 加熱樣品至350攝氏度

可選的蒸汽輸送入口可以將使用范圍擴展到液體前體，耐腐蝕工作增加了應用范圍，涵蓋了材料處理，包括：

• 等離子清洗
• 等離子體表面活化，提高附著力
• 功能性等離子涂層
• 等離子蝕刻
• PDMS和微流體設備
• PEEK和其他工程聚合物
• 聚四氟乙烯
• 金屬
• 陶瓷
• 玻璃和光學設備