脈沖激光二極管
沉積和熱蒸發器
多功能脈沖激光沉積和熱蒸發系統-PLD-T是一種高真空薄膜沉積系統，能夠通過脈沖激光沉積和熱蒸發技術沉積不同的材料。它可以在基底上沉積復雜的材料和晶體結構，只需很少的設置。
脈沖激光沉積技術導致有效的非熱燒蝕，并保持靶材料的化學計量。通過應用這種方法，可以沉積諸如氮化物、氧化物、超晶格、聚合物和復合材料之類的材料。
PLD-T
熱蒸發源
(船/籃子/線圈)
脈沖激光沉積系統可以配備三個獨立的熱阻熱蒸發源。蒸發源支架的良好設計不會導致污染物從源材料轉移到其他材料。源座長度可在5~10 cm范圍內調節，滿足客戶要求。
特征
- 轉速可調的目標機械手
- 3熱源和特殊引線
- 石英晶體實時監控系統厚度測量(1納米精度)
- 直觀的觸摸屏來控制涂層工藝和快速數據輸入
- 等離子清洗
- 可通過網絡更新的用戶友好軟件
- 配有旋轉樣品架
- 配有電子快門
- 裝備到機動船選擇
- 500°C襯底加熱器
規范
- 高真空渦輪分子泵
- 隔膜前級泵
- 全量程真空測量儀
- 5 KW大電流電源
- 精密質量流量計(MFC)
- 能夠記錄和繪制涂層參數圖
- 轉移曲線和沉積過程通過USB端口向PC傳輸數據