DST1-300具有最小的臺式尺寸，為高分辨率SEM和TEM樣品制備提供DC和RF濺射。
DST1-300系列提供以下型號，以滿足大多數實驗室應用。
DST1-300
單磁控管，DC，射頻，樣品偏壓，樣品加熱，樣品旋轉。
DST2-A
兩個磁控管傾斜中心焦點，DC，RF樣品偏置，樣品加熱，樣品旋轉。
DST2-TA
兩個磁控管成角度的中心焦點，DC，RF樣品偏壓，樣品加熱，樣品旋轉，用于碳、絲或舟的單一熱蒸發設備。
DST1-S
兩個直磁控管、DC、RF樣品偏壓、樣品加熱、樣品旋轉、碳、絲或舟的單一熱蒸發設備。
DST2-TS
兩個直磁控管、DC、RF樣品偏壓、樣品加熱、樣品旋轉、碳、絲或舟的單一熱蒸發設備。
DST3-A
三個磁控管傾斜中心焦點，DC，RF樣品偏置，樣品加熱，樣品旋轉。
DST3-TA
磁控管傾斜中心焦點、DC、RF樣品偏壓、樣品加熱、樣品旋轉、碳、絲或舟的單一熱蒸發設備。
DST3-S
三磁控管直，DC，射頻樣品偏壓，樣品加熱，樣品旋轉。
DST3-TS
三個磁控管直管、DC、RF樣品偏壓、樣品加熱、樣品旋轉、碳、絲或舟的單次熱蒸發
DST1-L至DST3:真空室為圓柱形耐熱玻璃，外徑300毫米，高200毫米(DST1-4) /外徑170毫米x 140毫米
H (DST1-2)。配有內部安裝的渦輪分子泵，由隔膜泵支持，隔膜泵引入清潔的真空，沒有通常出現在普通擴散泵中的油污染。
特征
高真空渦輪泵。
隔膜前級泵。
全量程真空計。
高精度石英晶體厚度監視器。
直觀的觸摸屏控制涂層過程和快速數據輸入
用戶友好的軟件，可以通過網絡更新。
控制涂層速率以獲得更細的晶粒結構。
手動定時和厚度濺射。
能夠記錄和繪制涂層參數圖。
自動或半自動控制。
配有電子快門。
易于更換的樣品載物臺(標準旋轉載物臺)。
規范
極限真空:小于2×10-5托。
控制濺射速率以獲得更精細的晶粒結構。
獨立于壓力自動控制濺射功率。
精密質量流量計(MFC ),用于精確控制真空壓力
能夠記錄和繪制涂層參數圖。
通過USB端口將曲線和沉積過程數據傳輸到PC。
DST1-L，渦輪泵臺式濺射鍍膜機:
DST1-L型大型室單磁控管水冷臺式濺射鍍膜機是Vac Coats的大型鍍膜系統，具有獨立的控制架，能夠鍍覆半導體、電介質和金屬(氧化和非氧化)。在快速循環時間內形成具有細晶粒尺寸的均勻薄膜。配備單個磁控管陰極，陰極的直徑可以是2-4英寸，取決于要求、射頻、樣品加熱升級
DST2，渦輪泵臺式雙濺射鍍膜機:
水冷的大室雙磁控管陰極非常適用于涂覆直徑達15厘米的大樣品，或多個直徑相似的小樣品。無限制的濺射時間使其適合于厚層沉積。系統配有800 W DC電源、300 W射頻電源(可選)及配套箱。該系統可以在不同表面上沉積各種材料，用于薄膜應用，如微納米電子和SEM樣品制備
DST3:渦輪泵臺式三重濺射鍍膜機:
水冷的大室DST3 3 2 “磁控管陰極非常適合涂覆直徑達15 cm的大樣品，或多個直徑相似的小樣品。無限制的濺射時間使其適合于厚層沉積。系統配有800 W DC電源、300 W射頻電源(可選)及配套箱。該系統可以在不同表面上沉積各種材料，用于薄膜應用，如微納米電子和SEM樣品制備
