Pulsed Laser desktop system PLD: Compact Desktop Thin Film PLD脈沖激光桌面鍍膜系統(tǒng)

PLD：緊湊型臺(tái)式薄膜PLD

脈沖激光沉積技術(shù)可實(shí)現(xiàn)高效、無(wú)熱燒蝕，并保持目標(biāo)材料的化學(xué)計(jì)量。通過(guò)應(yīng)用這種方法，它可以沉積氮化物、氧化物、超晶格、聚合物、復(fù)合材料等材料。

PLD配備了一個(gè)多目標(biāo)機(jī)械手，包括三個(gè)直徑為2厘米的機(jī)械手。目標(biāo)尺寸為標(biāo)準(zhǔn)尺寸。我們所有的目標(biāo)機(jī)械手都是電動(dòng)的，包括目標(biāo)旋轉(zhuǎn)

PLD-T：具有3個(gè)蒸發(fā)源的緊湊型臺(tái)式薄膜PLD

PLD–T是一種高真空薄膜沉積系統(tǒng)，能夠通過(guò)脈沖激光沉積和熱蒸發(fā)技術(shù)沉積不同的材料。

它可以在基板上沉積復(fù)雜的材料和晶體結(jié)構(gòu)，只需很少的設(shè)置。

PLD–T配備了一個(gè)多目標(biāo)機(jī)械手，其中包括三個(gè)直徑為2厘米的機(jī)械手。

目標(biāo)尺寸為標(biāo)準(zhǔn)尺寸。我們所有的目標(biāo)機(jī)械手都是電動(dòng)的，包括目標(biāo)旋轉(zhuǎn)

熱蒸發(fā)源（船/吊籃/盤(pán)管）

PLD–T配備了三個(gè)獨(dú)立的耐熱熱蒸發(fā)源。蒸發(fā)源支架的設(shè)計(jì)避免了源材料與其他材料的交叉污染。

光源支架的長(zhǎng)度可以在5~10cm的范圍內(nèi)調(diào)整，滿(mǎn)足客戶(hù)的要求。