Pulsed Laser desktop system PLD: Compact Desktop Thin Film PLD脈沖激光桌面鍍膜系統

PLD：緊湊型臺式薄膜PLD

脈沖激光沉積技術可實現高效、無熱燒蝕，并保持目標材料的化學計量。通過應用這種方法，它可以沉積氮化物、氧化物、超晶格、聚合物、復合材料等材料。

PLD配備了一個多目標機械手，包括三個直徑為2厘米的機械手。目標尺寸為標準尺寸。我們所有的目標機械手都是電動的，包括目標旋轉

PLD-T：具有3個蒸發源的緊湊型臺式薄膜PLD

PLD–T是一種高真空薄膜沉積系統，能夠通過脈沖激光沉積和熱蒸發技術沉積不同的材料。

它可以在基板上沉積復雜的材料和晶體結構，只需很少的設置。

PLD–T配備了一個多目標機械手，其中包括三個直徑為2厘米的機械手。

目標尺寸為標準尺寸。我們所有的目標機械手都是電動的，包括目標旋轉

熱蒸發源（船/吊籃/盤管）

PLD–T配備了三個獨立的耐熱熱蒸發源。蒸發源支架的設計避免了源材料與其他材料的交叉污染。

光源支架的長度可以在5~10cm的范圍內調整，滿足客戶的要求。