WaferPro SiO2熔融石英晶圓
“熔融石英”或“熔融石英”，它是石英 （SiO2） 的非晶相。與硼硅酸鹽玻璃相比，熔融石英不含添加劑;因此它以純形式存在，即 SiO2。與普通玻璃相比，熔融石英在紅外和紫外線光譜中具有更高的透射率。熔融石英是通過熔化和再固化超純 SiO2 制成的。另一方面，合成熔融石英由富含硅的化學前驅體（如 SiCl4）制成，這些化學前驅體在 H2 + O2 氣氛中氣化然后氧化。在這種情況下形成的 SiO2 粉塵與基板上的二氧化硅熔合。熔融石英塊被切割成晶片，然后最終對晶片進行拋光。
熔融石英硅片的類型
WaferPro 提供由以下襯底材料制成的高品質熔融石英玻璃晶圓。
| 大小 | 英寸 | 2″ | 3″ | 4″ | 6″ | 8″ | 10″ | 12” |
|---|
| 直徑 | 毫米 | 50.8 | 76.2 | 100 | 150 | 200 | 250 | 300 |
| 容差 （±） | 毫米 | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.2 |
| 厚度 | 微米 | 100 及以上 | 100 及以上 | 100 及以上 | 300 及以上 | 400 及以上 | 500 及以上 | 500 及以上 |
| 主要參考單位 | 毫米 | 32.5 | 32.5 | 32.5 | 57.5 | 半缺口 | 半缺口 | 半缺口 |
| LTV （5 毫米 x 5 毫米） | 微米 | < 0.5 | < 0.5 | < 0.5 | < 0.5 | < 0.5 | < 0.5 | < 0.5 |
| TTV 電視 | 微米 | < 2 | < 2 | < 2 | < 3 | <3 | <5 | <5 |
| 弓 | 微米 | ±20 | ±20 | ±20 | ±30 | ±40 | ±40 | ±40 |
| 經線 | 微米 | ≤ 30 | ≤ 30 | ≤ 30 | ≤ 40 | ≤ 50 | ≤ 50 | ≤ 50 |
| 連續曝光度（5mm*5mm）<0.4um | % | ≥95% | ≥95% | ≥95% | ≥95% | ≥95% | ≥95% | ≥95% |
| 邊緣倒圓角 | 毫米 | SEMI 標準 | SEMI 標準 | SEMI 標準 | SEMI 標準 | SEMI 標準 | SEMI 標準 | SEMI 標準 |
| 表面類型 | SSP/DSP的 | SSP/DSP的 | SSP/DSP的 | SSP/DSP的 | SSP/DSP的 | SSP/DSP的 | SSP/DSP的 | |
| 表面粗糙度 | 納米 | ≤1 | ≤1 | ≤1 | ≤1 | ≤1 | ≤1 | ≤1 |
WaferPro 熔融石英硅片：實現尖端技術
作為高純度熔融石英硅片的主要制造商，我們為眾多先進行業的創新提供支持。從半導體光刻技術到天文光學，我們的晶圓可提供突破界限所需的精確性能。世界各地的客戶以我們的材料為設計核心，創造出變革性的產品。
我們利用一絲不茍的制造技術生產具有卓越質量標準的熔融石英晶片。我們的晶圓具有出色的光傳輸率、化學電阻率、微污染物純度、耐溫性和尺寸穩定性。我們可以根據需要定制直徑、厚度、平面或方向。
憑借十多年的熔融石英專業知識，我們的工藝工程專業知識轉化為一批又一批的均勻性晶圓。我們歡迎有機會與研究人員合作，共同開發以下領域的前沿應用：
- 光刻 – 顯微鏡物鏡、透鏡
- MEMS – 微流體、生物微電子的襯底
- 光電子學 – 平面波導電路
- 傳感器 – Lab-on-Chip 設備、光譜學
- 天文學 – 望遠鏡、校準工件
- 光學系統 – 窗口、棱鏡、濾光片
- 計量 – 平面、粗糙度標準
- 激光技術 – 板坯、棒材、管材
下一代技術的基礎從這里開始。探索我們的熔融石英硅片如何為您自己的高級設計提供支持。我們的團隊邀請討論您的特定應用需求。了解為什么行業領導者依賴我們的卓越材料科學和工程。
